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2．酸洗

   1）配制2.0%鹽酸溶液：將1200LRO水沖入清洗水箱中，緩慢地加入70Kg37%濃鹽酸，邊加邊攪拌均勻（可啟動清洗泵循環(huán)攪拌）。

   2）檢查各閥門切換正常并無酸洗液泄漏后，啟動清洗泵運行30分鐘，運行流量和壓力為正常運行狀態(tài)，最小流量可以為EDI正常運行時流量的一半。

   3）沖洗排掉清洗水箱內(nèi)清洗液，并用RO水沖洗EDI系統(tǒng)出水至中性。

3．消毒

   清洗水箱中加入1200LRO產(chǎn)水，緩緩加入約10kg25%的H2O2溶液，配制0.2%的H2O2溶液，用清洗泵自循環(huán)10分鐘，使溶液混合均勻。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保經(jīng)銷多年。廣東全國發(fā)貨美國IONPURE EDI模塊報價

二、工業(yè)水處理的未來

  目前的RO－EDI技術**地降低了化學藥劑的使用，簡化了運行操作，降低了總的固定投資費用。盡管在工業(yè)水處理中還面臨著進一步降低化學藥劑使用的要求，但我們可以預期，隨著過濾及RO膜技術的提高，RO－EDI系統(tǒng)的經(jīng)濟性將會得到進一步的提高。

  將來會如何變化？我們會看到在所有的工業(yè)單元中降低對化學藥劑的使用將是肯定的?？梢灶A計，在3到5年的時間內(nèi)，85％的工業(yè)水處理系統(tǒng)將會采用RO／EDI系統(tǒng)，剩余15％的部分則是應用在預處理的費用較高或者不能抵消非化學方法的RO－EDI系統(tǒng)所帶來的固有益處的場合。

   IonpureIP-LXM30Z EDI模塊現(xiàn)在已完全確立了其市場地位，而且獲得了工業(yè)界的***接受，此項技術的發(fā)展將取決于工業(yè)界對采用非化學方法制取純水的不斷需求。

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超純水比較好選擇CEDI Ionpure IPLX可提供﹕LX膜塊主體﹐電源供應原件﹐DC電源供應器﹐DC電源顯示面板及管路安裝配件﹔該膜塊通常安裝與RO純水設備之后并提供下列優(yōu)勢。 ***穩(wěn)定及符合工業(yè)級需求之比較好原件 ****避免漏水之運轉(zhuǎn)設計 *機簡易之配管及回路設計需求 *提供完整之電源供應原件 *可提供單一膜塊**電源供應 *可顯示個別膜塊所消耗之電壓及安培數(shù) *膜塊設計比較高可承受工作壓力100psi *膜塊設計比較高可承受工作溫度45℃(113℉) *高溫**膜塊比較高可承受工作溫度80℃(176℉) *安全毋需停機再生﹐影響制程 *毋需使用酸堿再生也無廢水排放

清洗 隨著工作時間的累積，需要對美國Ionpure EDI模塊進行清洗及消毒，這是因為： - 硬度或金屬結(jié)垢，主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi)； - 在離子交換樹脂或膜形成無機物污垢（例如，硅）； - 在離子交換樹脂或膜形成有機物污垢； - EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢； - 以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。 高溫消毒 美國Ionpure EDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進行消毒，消毒說明將同時提供給用戶。 例行的消毒比較好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒，只適用于嚴重的生物污堵的消毒, 消毒時先進行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保服務放心可靠。

(1) 西門子EDI模塊，進水電導率的影響。

    在相同的操作電流下，隨著原水電導率的增加西門子EDI模塊對弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導率也增加。如果原水電導率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動勢梯度也大，導致水的解離程度增強，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。

(2) 西門子EDI模塊，工作電壓-電流的影響。

    工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過多，除用于再生樹脂外，大量富余離子充當載流離子導電，同時由于大量載流離子移動過程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 EDI模塊推薦您使用美國IONPURE EDI。廣東全國發(fā)貨美國IONPURE EDI模塊報價

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如果電壓降低或是進水的總離子水平提高的話,那么系統(tǒng)中的樹脂會更多的和離子發(fā)生交換,相應的工作區(qū)間就往出水側(cè)移動,直至達到新的平衡,或是穿透,這一過程中,出水電導會發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是**明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會向進水側(cè)發(fā)生移動,表現(xiàn)為出水水質(zhì)變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過出水水質(zhì)變化,弱電離子的漏出多少來實現(xiàn),并可以通過工作區(qū)間的移動來解釋。

     濃水流量的變化是另一個調(diào)節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對去除弱電離子Ｓｉ也有一定關系。由于Ｓｉ在２５℃,ｐＨ值是６～８的水體中的溶解度是１２０ｍｇ／Ｌ。所以進水的濃縮倍率達到一定程度后,Ｓｉ在濃水中就會飽和,導致不能進行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。 廣東全國發(fā)貨美國IONPURE EDI模塊報價

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