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智能排產(chǎn)功能在MES管理系統(tǒng)中有哪些應用
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新誠物業(yè)&芯軟智控:一封表揚信,一面錦旗,是對芯軟智控的滿分
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了解MES生產(chǎn)管理系統(tǒng)的作用及優(yōu)勢?
(3)濁度、污染指 數(shù)(SDI)的影響。
EDI組件產(chǎn)水通道內(nèi)填充有離子交換樹脂,過高的濁度、污染指 數(shù)會使通道堵塞,造成系統(tǒng)壓差上升,產(chǎn)水量下降。
(4)硬度的影響。
如果IONPUREEDI模塊中進水的殘存硬度太高,會導致濃縮水通道的膜表面結(jié)垢,濃水流量下降,產(chǎn)水電阻率下降;影響產(chǎn)水水質(zhì),嚴重時會堵塞組件濃水和極水流道,導致組件因內(nèi)部發(fā)熱而毀壞。
(5) TOC(總有機碳)的影響。
進水中如果有機物含量過高,會造成樹脂和選擇透過性膜的有機污染,導致系統(tǒng)運行電壓上升,產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時也容易在濃縮水通道形成有機膠體,堵塞通道。
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◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水;
◎TEA(總可交換陰離子,以CaCO3計):<25ppm;
◎電導率:<40μS/cm;
◎PH:6.0~9.0。當總硬度低于0.1ppm時,EDI比較好工作的pH范圍為8.0~9.0;
◎溫度: 5~35℃;
◎進水壓力:<4bar(60psi);
◎硬度:(以CaCO3計):<1.0ppm;
◎有機物( TOC):<0.5ppm;
◎氧化劑:Cl2<0.05ppm,O3<0.02ppm;
◎變價金屬:Fe<0.01ppm,Mn<0.02ppm。;
◎H2S:<0.01ppm;
◎二氧化硅:<0.5ppm;
◎色度:<5APHA;
◎二氧化碳的總量:<10ppm;
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美國Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊清洗步驟如下:
1.準備
1)關(guān)閉EDI系統(tǒng)。停止EDI系統(tǒng)運行,確定EDI模塊的電源已被切斷并把整流器轉(zhuǎn)換鈕轉(zhuǎn)到“關(guān)閉”位置。
2)關(guān)閉下列閥門:原水進水閥、淡水產(chǎn)水閥、淡水沖洗排放閥、極水排放閥、濃水排放閥、濃水循環(huán)泵進出口閥。
3)將清洗水箱和相關(guān)的清洗管道清洗干凈。
4)連接清洗管道。把淡水產(chǎn)水、濃水排放、極水排放的清洗管線直接連接到清洗水箱上。把原水進水、濃水進水清洗管線連接到EDI系統(tǒng)的原水進水和濃水進水清洗接口上。注意清洗管線必須牢固、緊密,以防止化學藥品的噴濺。
美國Ionpure EDI模塊混床在運行過程中,其內(nèi)部的樹脂分為飽和區(qū),交換區(qū),新生區(qū)。飽和區(qū)的樹脂已經(jīng)被離子飽和,不再具有從進水中交換離子的功能;交換區(qū)的樹脂處于部分飽和狀態(tài),離子交換主要在交換區(qū)完成;新生區(qū)的樹脂尚未發(fā)生離子交換。隨著混床的運行,飽和區(qū)和交換區(qū)將逐步向上移動,新生區(qū)的空間將減少,直到被穿透。新生區(qū)的存在是產(chǎn)水的保證,而新生區(qū)被穿透的時候,也就意味著混床產(chǎn)水水質(zhì)將下降,混床是需要用藥品再生。美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保購買品質(zhì)有保證。
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根據(jù)美國IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊系統(tǒng)的運行狀態(tài),EDI系統(tǒng)的清洗采用酸洗—消毒—堿洗的方法來清洗EDI模塊。
1.
清洗時,EDI系統(tǒng)的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從“原水進”和”濃水進”清洗口進入EDI,從“產(chǎn)水”、“濃水出”、“極水出”回到清洗水箱。(正洗)
2.
***步 酸洗:清洗水箱中配制2.0%鹽酸溶液,循環(huán)30分鐘。
沖洗:清洗水箱中酸洗液放掉后,將水箱中水沖洗至中性,然后將清洗進和回流管清洗到回流水至中性。
第二步 消毒:清洗水箱中配制0.2%的H2O2溶液(約用25% H2O2的濃10kg)循環(huán)50分鐘。
沖洗:清洗水箱中消毒液放掉后,清洗EDI至水箱中回流水至電導率降至100μs/cm以下。
第三步:堿洗:水箱中配制1.2%NaOH+5.0%NaCL 的溶液,循環(huán)50分鐘。
沖洗:清洗水箱中消毒液放掉后,清洗EDI至水箱中回流水至電導率降至100μs/cm以下。
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