上海美國IONPURE EDI模塊貨源充足

來源: 發(fā)布時間:2022-09-29

美國Ionpure EDI模塊工作主要有三個過程:

a.  淡水進(jìn)入淡水室后,淡水中的離子與混床樹脂發(fā)生交換,從而從水中脫離;

b.  被交換的離子受電性吸引作用,陽離子穿過陽離子交換膜向陰極遷移,陰離子穿過陰離子交換膜向陽極遷移,并進(jìn)入濃水室從而從淡水中去除。

離子進(jìn)入濃水室后,由于陽離子無法穿過陰離子交換膜,因此其將被截留在濃水室,同樣,陰離子無法穿過陽離子交換膜,被截留在濃水室,這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊;此外,由于進(jìn)水中的離子被不斷地去除,那么淡水的純度將不斷提高,在由模塊出來的時候,其純度可以達(dá)到接近理論純水的水平。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保專業(yè)銷售。上海美國IONPURE EDI模塊貨源充足

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如果電壓降低或是進(jìn)水的總離子水平提高的話,那么系統(tǒng)中的樹脂會更多的和離子發(fā)生交換,相應(yīng)的工作區(qū)間就往出水側(cè)移動,直至達(dá)到新的平衡,或是穿透,這一過程中,出水電導(dǎo)會發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是**明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進(jìn)水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會向進(jìn)水側(cè)發(fā)生移動,表現(xiàn)為出水水質(zhì)變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過出水水質(zhì)變化,弱電離子的漏出多少來實現(xiàn),并可以通過工作區(qū)間的移動來解釋。

     濃水流量的變化是另一個調(diào)節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對去除弱電離子Si也有一定關(guān)系。由于Si在25℃,pH值是6~8的水體中的溶解度是120mg/L。所以進(jìn)水的濃縮倍率達(dá)到一定程度后,Si在濃水中就會飽和,導(dǎo)致不能進(jìn)行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。 江蘇零售美國IONPURE EDI模塊貨源充足美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保詢問報價。

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a.  淡水進(jìn)入淡水室后,淡水中的離子與混床樹脂發(fā)生交換,從而從水中脫離;

b.  被交換的離子受電性吸引作用,陽離子穿過陽離子交換膜向陰極遷移,陰離子穿過陰離子交換膜向陽極遷移,并進(jìn)入濃水室從而從淡水中去除。

c.  水分子在電的作用下被不斷地離解為H+和OH- 和OH- 將分別使得被消耗的陽/陰樹脂連續(xù)再生。

過程a和過程c是樹脂的消耗和再生的兩個相反過程,這兩者會在模塊內(nèi)部形成一個動態(tài)平衡。

淡水可從模塊底部進(jìn)入淡水室,從頂部出來;淡水也可從模塊頂部進(jìn)入模塊,則從模塊底部出來;極水的進(jìn)水與淡水進(jìn)水同為一水流,只是分別進(jìn)入不同的室(極水室和濃水室),并從模塊頂部排出。

美國ionpure edi模塊的進(jìn)水指標(biāo)要求: ◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水 ◎TEA(總可交換陰離子,以CaCO3計):<25ppm。 ◎電導(dǎo)率:<40μS/cm。 ◎PH:6.0~9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時,edi比較好工作的pH范圍為8.0~9.0。 ◎溫度:5~35℃。 ◎進(jìn)水壓力:<4bar(60psi)。 ◎硬度:(以CaCO3計):<1.0ppm。 ◎有機物(TOC):<0.5ppm。 ◎氧化劑:Cl2<0.05ppm,O3<0.02ppm。 ◎變價金屬:Fe<0.01ppm,Mn<0.02ppm。 ◎H2S:<0.01ppm。 ◎二氧化硅:<0.5ppm。 ◎色度:<5APHA。 ◎二氧化碳的總量:<10ppm。 ◎ SDI 15min:<1.0。美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保貨源充足。

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美國Ionpure LXM30ZEDI模塊主要幾種損壞情況:

     1、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期在大電流,小流量運行,積聚的熱量得不到散發(fā),造成EDI接近兩極的膜片發(fā)熱變形,EDI濃水壓差增大,水質(zhì)和水量都不同程度的下降。

     2、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng),EDI的膜片和通道結(jié)鈣鎂垢,進(jìn)出水壓差增大,造成產(chǎn)水水質(zhì)下降,電壓上升,電流無法調(diào)節(jié),**終無法使用。

      3、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng)或長期停機沒有保護(hù),EDI的膜片和通道滋生有機物,進(jìn)出水壓差增大,造成產(chǎn)水水質(zhì)下降,電壓上升,電流無法調(diào)節(jié),**終無法使用。

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清洗

隨著工作時間的累積,需要對美國IonpureEDI模塊進(jìn)行清洗及消毒,這是因為:

-硬度或金屬結(jié)垢,主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi);

-在離子交換樹脂或膜形成無機物污垢(例如,硅);

-在離子交換樹脂或膜形成有機物污垢;

- EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢;

-以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下,需要使用一種以上的清洗方法。

高溫消毒

  美國IonpureEDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進(jìn)行消毒,消毒說明將同時提供給用戶。

例行的消毒** 好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒,只適用于嚴(yán)重的生物污堵的消毒,消毒時先進(jìn)行低濃度氧化劑消毒,再用高PH清洗。 上海美國IONPURE EDI模塊貨源充足

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