無錫芯軟智控科技有限公司榮獲無錫市專精特新中小企業(yè)榮譽
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智能排產(chǎn)功能在MES管理系統(tǒng)中有哪些應用
心芯相連·共京能年|2024年芯軟智控企業(yè)年會網(wǎng)滿舉行
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新誠物業(yè)&芯軟智控:一封表揚信,一面錦旗,是對芯軟智控的滿分
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了解MES生產(chǎn)管理系統(tǒng)的作用及優(yōu)勢?
2.酸洗
1)配制2.0%鹽酸溶液:將1200LRO水沖入清洗水箱中,緩慢地加入70Kg37%濃鹽酸,邊加邊攪拌均勻(可啟動清洗泵循環(huán)攪拌)。
2)檢查各閥門切換正常并無酸洗液泄漏后,啟動清洗泵運行30分鐘,運行流量和壓力為正常運行狀態(tài),最小流量可以為EDI正常運行時流量的一半。
3)沖洗排掉清洗水箱內(nèi)清洗液,并用RO水沖洗EDI系統(tǒng)出水至中性。
3.消毒
清洗水箱中加入1200LRO產(chǎn)水,緩緩加入約10kg25%的H2O2溶液,配制0.2%的H2O2溶液,用清洗泵自循環(huán)10分鐘,使溶液混合均勻。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保質(zhì)量服務。安徽批發(fā)美國IONPURE EDI模塊型號
IonpureIP-LXM30Z EDI模塊技術(shù)的市場占有率目前正迅速地擴大,它如同RO的早期市場開發(fā)一樣,其***的銷售策略已經(jīng)贏得了大量的供應商,并獲得了一批可為用戶提供服務的地方**。接下來就由小編一一為大家解析吧!一、IonpureIP-LXM30Z EDI模塊市場
目前世界上有許多水處理公司可以銷售RO-EDI系統(tǒng),任何一個有名的化學水處理設(shè)備供應商(或作為水處理系統(tǒng)的咨詢顧問),都會一致地將EDI視為那些要求降低酸堿使用的客戶的一個解決方案。
安徽批發(fā)美國IONPURE EDI模塊型號美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保質(zhì)量材質(zhì)上乘。
1.美國ionpureIP-LXM45Z模塊在制藥工業(yè)的應用
美國ionpureIP-LXM45Z模塊技術(shù)廣泛應用于生物制備和醫(yī)藥生產(chǎn)中的分離、濃縮和純化。如血液制備的分離、*** 素和干擾素的純化、蛋白質(zhì)的分級和純化、中草藥劑的除菌和澄清等。發(fā)酵是生物制藥的主流技術(shù),從發(fā)酵液中提取藥 物,傳統(tǒng)工藝是溶劑萃取或加熱濃縮,反復使用有機溶劑和酸堿溶液,耗量大,流程長,廢水處理任務重。特別是許多藥 物熱敏性強,使傳統(tǒng)工藝的實用性多受限制。國際先進的制藥生產(chǎn)線,大量采用膜分離技術(shù)代替?zhèn)鹘y(tǒng)的分離、濃縮和純化工藝。如以膜設(shè)備濃縮純化***、中藥湯及中藥針劑澄清等。
西門子模塊,到目前為止,擁有EDI領(lǐng)域的**75項以上。以其在各方面超前的技術(shù)、優(yōu)異的產(chǎn)品性能,被國際、國內(nèi)**公司廣泛應用于電力、電子、化工、醫(yī)藥等各個行業(yè)。
西門子模塊系統(tǒng)特點:
1、西門子模塊的系統(tǒng)無濃水循環(huán)不須加鹽,無極水排放,結(jié)構(gòu)簡單;
2、西門子模塊的智能化整流電源充分發(fā)揮模塊技術(shù)性能,安全可靠;
3、西門子模塊的濃水樹脂**技術(shù)提高離子遷移速度,系統(tǒng)能耗?。?
4、西門子模塊的淡水樹脂分層技術(shù)使非導電離子遷移,出水品質(zhì)高;
5、西門子模塊的成熟的回流技術(shù)減小前段波動影響,出水品質(zhì)穩(wěn)定;
6、西門子模塊的大通道隔板和**的樹脂處理技術(shù),抗污染能力強;
7、西門子模塊的豐富的現(xiàn)場經(jīng)驗優(yōu)化管道布置技巧,便于使用維護;
8、西門子模塊的特殊的密封工藝和優(yōu)良的膜性能,延長了使用壽命;
9、西門子模塊的標準化的規(guī)范工藝,降低設(shè)備維護和人員培訓成本。
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美國Ionpure LXM30ZEDI模塊主要幾種損壞情況:
1、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期在大電流,小流量運行,積聚的熱量得不到散發(fā),造成EDI接近兩極的膜片發(fā)熱變形,EDI濃水壓差增大,水質(zhì)和水量都不同程度的下降。
2、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng),EDI的膜片和通道結(jié)鈣鎂垢,進出水壓差增大,造成產(chǎn)水水質(zhì)下降,電壓上升,電流無法調(diào)節(jié),**終無法使用。
3、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng)或長期停機沒有保護,EDI的膜片和通道滋生有機物,進出水壓差增大,造成產(chǎn)水水質(zhì)下降,電壓上升,電流無法調(diào)節(jié),**終無法使用。
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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式
?直通逆流(低及高pH值都可)再循環(huán)(氧化劑)
?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)
步驟
注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進行。
?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)
?步驟 2.
a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)
或
b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)
或
c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)
?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液(閱讀上面所提的清洗化學品規(guī)范要求)??傮w來說,濃水為已用水按1:100的比例稀釋過。
? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)
氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)
?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導率>0.02 MO或等 同于進水(至少為 2 L (0.5 gal))
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