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美國IonpureIP-LXM30Z EDI模塊在運行過程中存在一個平衡狀態(tài),即:進離子總數(shù)＝出離子總數(shù),宏觀表現(xiàn)就是３個工作區(qū)間相對穩(wěn)定,不發(fā)生上下移動。如果模塊的工作條件發(fā)生變化,則需要比較長的時間來達到平衡狀態(tài)。

     美國IonpureIP-LXM30Z EDI模塊系統(tǒng)在運行中可調(diào)因素大致有進水流量、濃水流量、電壓等。

     進水流量增加,模塊的工作壓力也相應(yīng)增加,如果超過模塊的處理范圍,出水水質(zhì)會***變差。所以當(dāng)進水的電導(dǎo)比較高時,適當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)進水的流量是必需的。當(dāng)進水的電導(dǎo)比較小時,也可以在美國IonpureIP-LXM30Z EDI模塊系統(tǒng)壓力允許的范圍內(nèi)增加進水的流量,以提高產(chǎn)水的效率。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保詢問報價。安徽全國發(fā)貨美國IONPURE EDI模塊貨源充足

    根據(jù)美國IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊系統(tǒng)的運行狀態(tài)，EDI系統(tǒng)的清洗采用酸洗—消毒—堿洗的方法來清洗EDI模塊。

1．

  清洗時，EDI系統(tǒng)的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從“原水進”和”濃水進”清洗口進入EDI，從“產(chǎn)水”、“濃水出”、“極水出”回到清洗水箱。（正洗）

2．

***步 酸洗：清洗水箱中配制2.0%鹽酸溶液，循環(huán)30分鐘。

      沖洗：清洗水箱中酸洗液放掉后，將水箱中水沖洗至中性，然后將清洗進和回流管清洗到回流水至中性。

第二步 消毒：清洗水箱中配制0.2%的H2O2溶液（約用25% H2O2的濃10kg）循環(huán)50分鐘。

      沖洗：清洗水箱中消毒液放掉后，清洗EDI至水箱中回流水至電導(dǎo)率降至100μs/cm以下。

第三步：堿洗：水箱中配制1.2%NaOH+5.0%NaCL 的溶液，循環(huán)50分鐘。

      沖洗：清洗水箱中消毒液放掉后，清洗EDI至水箱中回流水至電導(dǎo)率降至100μs/cm以下。

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美國Ionpure EDI模塊工作主要有三個過程：

a.  淡水進入淡水室后，淡水中的離子與混床樹脂發(fā)生交換，從而從水中脫離；

b.  被交換的離子受電性吸引作用，陽離子穿過陽離子交換膜向陰極遷移，陰離子穿過陰離子交換膜向陽極遷移，并進入濃水室從而從淡水中去除。

離子進入濃水室后，由于陽離子無法穿過陰離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無法穿過陽離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊；此外，由于進水中的離子被不斷地去除，那么淡水的純度將不斷提高，在由模塊出來的時候，其純度可以達到接近理論純水的水平。

a.  淡水進入淡水室后，淡水中的離子與混床樹脂發(fā)生交換，從而從水中脫離；

b.  被交換的離子受電性吸引作用，陽離子穿過陽離子交換膜向陰極遷移，陰離子穿過陰離子交換膜向陽極遷移，并進入濃水室從而從淡水中去除。

過程a和過程c是樹脂的消耗和再生的兩個相反過程，這兩者會在模塊內(nèi)部形成一個動態(tài)平衡。

淡水可從模塊底部進入淡水室，從頂部出來；淡水也可從模塊頂部進入模塊，則從模塊底部出來；極水的進水與淡水進水同為一水流，只是分別進入不同的室（極水室和濃水室），并從模塊頂部排出。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保服務(wù)放心可靠。

IonpureIP-LXM30Z EDI模塊已經(jīng)達到了高流量的工業(yè)化要求－不僅在電子工業(yè)，而且在制藥、造紙、電力及化工生產(chǎn)等領(lǐng)域，這些系統(tǒng)提供的流量可達2000gpm及以上。事實上，由于***技術(shù)的開發(fā)，EDI系統(tǒng)在出力上的限制取決于其它的因素，而不是EDI系統(tǒng)的自身。

二、工業(yè)水處理的未來

  目前的RO－EDI技術(shù)**地降低了化學(xué)藥劑的使用，簡化了運行操作，降低了總的固定投資費用。盡管在工業(yè)水處理中還面臨著進一步降低化學(xué)藥劑使用的要求，但我們可以預(yù)期，隨著過濾及RO膜技術(shù)的提高，RO－EDI系統(tǒng)的經(jīng)濟性將會得到進一步的提高。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保購買品質(zhì)有保證。江西批發(fā)美國IONPURE EDI模塊哪家好

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離子進入濃水室后，由于陽離子無法穿過陰離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無法穿過陽離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊；此外，由于進水中的離子被不斷地去除，那么淡水的純度將不斷提高，在由模塊出來的時候，其純度可以達到接近理論純水的水平。

     c.  水分子在電的作用下被不斷地離解為H+和OH-和OH- 將分別使得被消耗的陽/陰樹脂連續(xù)再生。

過程a和過程c是樹脂的消耗和再生的兩個相反過程，這兩者會在模塊內(nèi)部形成一個動態(tài)平衡。

淡水可從模塊底部進入淡水室，從頂部出來；淡水也可從模塊頂部進入模塊，則從模塊底部出來；極水的進水與淡水進水同為一水流，只是分別進入不同的室（極水室和濃水室），并從模塊頂部排出。

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