天津?qū)I(yè)美國(guó)IONPURE EDI模塊哪家好

IONPUREL-XM系列工業(yè)型膜堆是專(zhuān)門(mén)為工作應(yīng)用而設(shè)計(jì)的。美國(guó)IONPURE IP-LXM45Z EDI模塊具有極其可靠地生產(chǎn)出質(zhì)量穩(wěn)定的高純水，而不會(huì)由于再生而中斷運(yùn)行。美國(guó)IONPURE IP-LXM45Z EDI模塊可以應(yīng)用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實(shí)驗(yàn)室中。

美國(guó)IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊產(chǎn)品特色：

采用雙O-型密封圈進(jìn)行密封，確保膜堆在運(yùn)行中不發(fā)生泄漏；

產(chǎn)水水質(zhì)等同甚至優(yōu)于混床出水，無(wú)需使用化學(xué)藥劑；

連續(xù)產(chǎn)水且水質(zhì)穩(wěn)定無(wú)波動(dòng)，不似批處理設(shè)備呈周期變化；

不需要使用酸、堿中和系統(tǒng)及樹(shù)脂罐；

具有優(yōu)良的電絕緣性能；

在7bar（100psi）、45℃（113oF）條件下，可以連續(xù)運(yùn)行；

采用專(zhuān)利注冊(cè)的“全填充”技術(shù)，不必使用濃水循環(huán)泵和加鹽系統(tǒng)。 購(gòu)買(mǎi)美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保是****。天津?qū)I(yè)美國(guó)IONPURE EDI模塊哪家好

(5) 西門(mén)子EDI模塊，TOC(總有機(jī)碳)的影響。

     進(jìn)水中如果有機(jī)物含量過(guò)高，會(huì)造成樹(shù)脂和選擇透過(guò)性膜的有機(jī)污染，導(dǎo)致系統(tǒng)運(yùn)行電壓上升，產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時(shí)也容易在濃縮水通道形成有機(jī)膠體，堵塞通道。

(6) 西門(mén)子EDI模塊，進(jìn)水中CO2的影響。

     進(jìn)水中CO2生成的HCO3-是弱電解質(zhì)，容易穿透離子交換樹(shù)脂層而造成產(chǎn)水水質(zhì)下降。

(7) 西門(mén)子EDI模塊，總陰離子含量(TEA)的影響。

     高的TEA將會(huì)降西門(mén)子EDI模塊產(chǎn)水電阻率，或需要提高西門(mén)子EDI模塊運(yùn)行電流，而過(guò)高的運(yùn)行電流會(huì)導(dǎo)致系統(tǒng)電流增大，極水余氯濃度增大，對(duì)極膜壽命不利。

另外，進(jìn)水溫度、pH值、SiO2以及氧化物亦對(duì)西門(mén)子EDI模塊系統(tǒng)運(yùn)行有影響。 上海專(zhuān)業(yè)美國(guó)IONPURE EDI模塊多少錢(qián)上海純超環(huán)保出售質(zhì)量美國(guó)IONPURE EDI模塊。

離子進(jìn)入濃水室后，由于陽(yáng)離子無(wú)法穿過(guò)陰離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無(wú)法穿過(guò)陽(yáng)離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽(yáng)離子將隨濃水流被排出模塊；此外，由于進(jìn)水中的離子被不斷地去除，那么淡水的純度將不斷提高，在由模塊出來(lái)的時(shí)候，其純度可以達(dá)到接近理論純水的水平。

     c.  水分子在電的作用下被不斷地離解為H+和OH-和OH- 將分別使得被消耗的陽(yáng)/陰樹(shù)脂連續(xù)再生。

過(guò)程a和過(guò)程c是樹(shù)脂的消耗和再生的兩個(gè)相反過(guò)程，這兩者會(huì)在模塊內(nèi)部形成一個(gè)動(dòng)態(tài)平衡。

淡水可從模塊底部進(jìn)入淡水室，從頂部出來(lái)；淡水也可從模塊頂部進(jìn)入模塊，則從模塊底部出來(lái)；極水的進(jìn)水與淡水進(jìn)水同為一水流，只是分別進(jìn)入不同的室（極水室和濃水室），并從模塊頂部排出。

西門(mén)子LX-Z系列EDI模塊是專(zhuān)門(mén)為工作應(yīng)用而設(shè)計(jì)的。西門(mén)子LX-Z系列EDI模塊可以極其可靠地生產(chǎn)出質(zhì)量穩(wěn)定的高純水，而不會(huì)由于再生而中斷運(yùn)行。膜堆可以應(yīng)用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實(shí)驗(yàn)室中。

   西門(mén)子LX-Z系列EDI模塊運(yùn)行環(huán)境：應(yīng)安裝在室內(nèi)，避免陽(yáng)光直射，室內(nèi)比較高環(huán)境溫度是45℃（95oF）。

                             典型膜堆性能

                              操作參數(shù)

回收率

90-95%

比較大允許進(jìn)水壓力

7bar(100psi)

比較高允許進(jìn)水溫度

45℃(113?F)

名義流量時(shí)的壓降范圍

1.4-2.1bar(20-30psi)

                               產(chǎn)水水質(zhì)

產(chǎn)水電阻率

>16M?.cm (見(jiàn)下面說(shuō)明)

說(shuō)明:實(shí)際性能可以用Ionpure的IP-Pro設(shè)計(jì)軟件確定

硅(SiO2)去除率

90-99%，取決于進(jìn)水條件 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保讓您滿意的選擇。

EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過(guò)程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過(guò)氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說(shuō)明書(shū)配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）。總體來(lái)說(shuō)，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過(guò)。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))

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(1) 西門(mén)子EDI模塊，進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。

    在相同的操作電流下，隨著原水電導(dǎo)率的增加西門(mén)子EDI模塊對(duì)弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹(shù)脂和膜的表面上形成的電動(dòng)勢(shì)梯度也大，導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng)，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽(yáng)離子交換樹(shù)脂的再生效果良好。

(2) 西門(mén)子EDI模塊，工作電壓-電流的影響。

    工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點(diǎn)后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過(guò)多，除用于再生樹(shù)脂外，大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電，同時(shí)由于大量載流離子移動(dòng)過(guò)程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴(kuò)散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 天津?qū)I(yè)美國(guó)IONPURE EDI模塊哪家好

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