廠家供應(yīng)美國IONPURE EDI模塊多少錢

美國Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)：

  1、淡水隔板采用衛(wèi)生級(jí)PE材料；

  2、膜片采用進(jìn)口均相膜和國產(chǎn)異相離子交換膜；

  3、采用進(jìn)口EDI**均粒樹脂和國產(chǎn)EDI**均粒樹脂；

  4、美國Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊電極板采用鈦鍍釕技術(shù)；

  5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成；

  6、固定螺絲采用國標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)件；

  7、出廠比較高試壓7bar不漏水；

  8、電阻低、功耗??；

  9、美國Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊外觀裝飾板造型美觀結(jié)實(shí)；

  10、比較大膜堆處理水量3T/H，** 小模堆處理水量75L/H；

  11、純水、濃水、極水通道設(shè)計(jì)合理，不易堵塞，水流分布均勻、無死角。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保誠信為本。廠家供應(yīng)美國IONPURE EDI模塊多少錢

(1)進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。

   在相同的操作電流下，隨著原水電導(dǎo)率的增加IONPUREEDI模塊對(duì)弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動(dòng)勢(shì)梯度也大，導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng)，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。

(2)工作電壓-電流的影響。

  工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點(diǎn)后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過多，除用于再生樹脂外，大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電，同時(shí)由于大量載流離子移動(dòng)過程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴(kuò)散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 山東原裝美國IONPURE EDI模塊種類美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保歡迎咨詢。

(3) 西門子EDI模塊，濁度、污染指 數(shù)(SDI)的影響。

     EDI組件產(chǎn)水通道內(nèi)填充有離子交換樹脂，過高的濁度、污染指 數(shù)會(huì)使通道堵塞，造成系統(tǒng)壓差上升，產(chǎn)水量下降。

(4) 西門子EDI模塊，硬度的影響。

     如果西門子EDI模塊中進(jìn)水的殘存硬度太高，會(huì)導(dǎo)致濃縮水通道的膜表面結(jié)垢，濃水流量下降，產(chǎn)水電阻率下降;影響產(chǎn)水水質(zhì)，嚴(yán)重時(shí)會(huì)堵塞組件濃水和極水流道，導(dǎo)致組件因內(nèi)部發(fā)熱而毀壞。

(5) 西門子EDI模塊，TOC(總有機(jī)碳)的影響。

     進(jìn)水中如果有機(jī)物含量過高，會(huì)造成樹脂和選擇透過性膜的有機(jī)污染，導(dǎo)致系統(tǒng)運(yùn)行電壓上升，產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時(shí)也容易在濃縮水通道形成有機(jī)膠體，堵塞通道。

IONPUREIP-LXM45Z EDI模塊設(shè)備的進(jìn)水指標(biāo)：

     ◎通常為單級(jí)反滲透或二級(jí)反滲透的滲透水；

     ◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計(jì)）：<25ppm；

     ◎電導(dǎo)率：<40μS/cm；

     ◎PH：6.0～9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時(shí)，EDI比較好工作的pH范圍為8.0～9.0；      

     ◎溫度： 5～35℃；

      ◎進(jìn)水壓力：<4bar（60psi）；

     ◎硬度：（以CaCO3計(jì)）：<1.0ppm；

     ◎有機(jī)物（ TOC）：<0.5ppm；

      ◎氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm；

      ◎變價(jià)金屬：Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。；

      ◎H2S：<0.01ppm；

     ◎二氧化硅：<0.5ppm；

     ◎色度：<5APHA；

     ◎二氧化碳的總量：<10ppm；

     ◎ SDI 15min：<1.0。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保各種型號(hào)出售。

西門子LX-Z系列EDI模塊是專門為工作應(yīng)用而設(shè)計(jì)的。西門子LX-Z系列EDI模塊可以極其可靠地生產(chǎn)出質(zhì)量穩(wěn)定的高純水，而不會(huì)由于再生而中斷運(yùn)行。膜堆可以應(yīng)用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實(shí)驗(yàn)室中。

   西門子LX-Z系列EDI模塊運(yùn)行環(huán)境：應(yīng)安裝在室內(nèi)，避免陽光直射，室內(nèi)比較高環(huán)境溫度是45℃（95oF）。

                             典型膜堆性能

                              操作參數(shù)

回收率

90-95%

比較大允許進(jìn)水壓力

7bar(100psi)

比較高允許進(jìn)水溫度

45℃(113?F)

名義流量時(shí)的壓降范圍

1.4-2.1bar(20-30psi)

                               產(chǎn)水水質(zhì)

產(chǎn)水電阻率

>16M?.cm (見下面說明)

說明:實(shí)際性能可以用Ionpure的IP-Pro設(shè)計(jì)軟件確定

硅(SiO2)去除率

90-99%，取決于進(jìn)水條件 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保服務(wù)放心可靠。廣東廠家供應(yīng)美國IONPURE EDI模塊多少錢

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）?？傮w來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))

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