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智能排產(chǎn)功能在MES管理系統(tǒng)中有哪些應(yīng)用
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了解MES生產(chǎn)管理系統(tǒng)的作用及優(yōu)勢?
2.酸洗
1)配制2.0%鹽酸溶液:將1200LRO水沖入清洗水箱中,緩慢地加入70Kg37%濃鹽酸,邊加邊攪拌均勻(可啟動清洗泵循環(huán)攪拌)。
2)檢查各閥門切換正常并無酸洗液泄漏后,啟動清洗泵運行30分鐘,運行流量和壓力為正常運行狀態(tài),最小流量可以為EDI正常運行時流量的一半。
3)沖洗排掉清洗水箱內(nèi)清洗液,并用RO水沖洗EDI系統(tǒng)出水至中性。
3.消毒
清洗水箱中加入1200LRO產(chǎn)水,緩緩加入約10kg25%的H2O2溶液,配制0.2%的H2O2溶液,用清洗泵自循環(huán)10分鐘,使溶液混合均勻。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保信譽保證??诒妹绹鳬ONPURE EDI模塊廠家直供
根據(jù)美國IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊系統(tǒng)的運行狀態(tài),EDI系統(tǒng)的清洗采用酸洗—消毒—堿洗的方法來清洗EDI模塊。
1.
清洗時,EDI系統(tǒng)的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從“原水進”和”濃水進”清洗口進入EDI,從“產(chǎn)水”、“濃水出”、“極水出”回到清洗水箱。(正洗)
2.
***步 酸洗:清洗水箱中配制2.0%鹽酸溶液,循環(huán)30分鐘。
沖洗:清洗水箱中酸洗液放掉后,將水箱中水沖洗至中性,然后將清洗進和回流管清洗到回流水至中性。
第二步 消毒:清洗水箱中配制0.2%的H2O2溶液(約用25% H2O2的濃10kg)循環(huán)50分鐘。
沖洗:清洗水箱中消毒液放掉后,清洗EDI至水箱中回流水至電導率降至100μs/cm以下。
第三步:堿洗:水箱中配制1.2%NaOH+5.0%NaCL 的溶液,循環(huán)50分鐘。
沖洗:清洗水箱中消毒液放掉后,清洗EDI至水箱中回流水至電導率降至100μs/cm以下。
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產(chǎn)水水質(zhì)等同甚至優(yōu)于混床出水,無需使用化學藥劑;
連續(xù)產(chǎn)水且水質(zhì)穩(wěn)定無波動,不似批處理設(shè)備呈周期變化;
不需要使用酸、堿中和系統(tǒng)及樹脂罐;
具有優(yōu)良的電絕緣性能;
在7bar(100psi)、45℃(113oF)條件下,可以連續(xù)運行;
采用專利注冊的“全填充”技術(shù),不必使用濃水循環(huán)泵和加鹽系統(tǒng)。
超純水比較好選擇CEDI Ionpure IPLX可提供﹕LX膜塊主體﹐電源供應(yīng)原件﹐DC電源供應(yīng)器﹐DC電源顯示面板及管路安裝配件﹔該膜塊通常安裝與RO純水設(shè)備之后并提供下列優(yōu)勢。 ***穩(wěn)定及符合工業(yè)級需求之比較好原件 ****避免漏水之運轉(zhuǎn)設(shè)計 *機簡易之配管及回路設(shè)計需求 *提供完整之電源供應(yīng)原件 *可提供單一膜塊**電源供應(yīng) *可顯示個別膜塊所消耗之電壓及安培數(shù) *膜塊設(shè)計比較高可承受工作壓力100psi *膜塊設(shè)計比較高可承受工作溫度45℃(113℉) *高溫**膜塊比較高可承受工作溫度80℃(176℉) *安全毋需停機再生﹐影響制程 *毋需使用酸堿再生也無廢水排放 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保滿足客戶的不同需求。
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1、淡水隔板采用衛(wèi)生級PE材料;
2、膜片采用進口均相膜和國產(chǎn)異相離子交換膜;
3、采用進口EDI**均粒樹脂和國產(chǎn)EDI**均粒樹脂;
4、美國Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊電極板采用鈦鍍釕技術(shù);
5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成;
6、固定螺絲采用國標標準件;
7、出廠比較高試壓7bar不漏水;
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10、比較大膜堆處理水量3T/H,** 小模堆處理水量75L/H;
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