石家莊手機溫度傳感器原理

    提供這些實施例的目的是使對本發(fā)明的公開內(nèi)容更加透徹。除非另有定義，本文所使用的所有的技術(shù)和科學術(shù)語與屬于本發(fā)明的技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員通常理解的含義相同。本文中在本發(fā)明的說明書中所使用的術(shù)語只是為了描述具體的實施例的目的，不是旨在于限制本發(fā)明。本文所使用的術(shù)語“及/或”包括一個或多個相關(guān)的所列項目的任意的和所有的組合。本申請?zhí)峁┮环N溫度傳感器的制備方法，如圖1所示，其步驟包括：步驟s110：在硅片上形成若干溝槽。結(jié)合圖2a所示，獲取一硅晶片20，從硅片20上方垂直向下開設(shè)若干并列的溝槽21形成溝槽陣列。在一實施例中，先在硅片20上形成具有陣列圖案的光刻膠層，再以光刻膠作為掩膜版對硅片20進行刻蝕形成若干溝槽21。在本實施例中，刻蝕可為常規(guī)的干法刻蝕，具體為深度離子刻蝕。干法刻蝕具有更高的刻蝕精度和更好的各向異性性能，其精度可達亞微米級別，通過干法刻蝕，可以得到形態(tài)較好的溝槽，尤其是溝槽尺寸較小時利用干法刻蝕效果更佳?？赏ㄟ^調(diào)節(jié)掩膜板圖案和控制刻蝕參數(shù)得到不同形態(tài)的溝槽，其中，溝槽21的寬度可為～1μm，溝槽21的深度可為1～10μm，相鄰溝槽21之間的間隔可為～1μm。溝槽21的俯視形貌可以為圓形、方形或其他形狀。溫度傳感器中用來測量溫度的傳感器種類很多，熱敏電阻器就是其中之一。石家莊手機溫度傳感器原理

    測溫單元形成于空腔上方的氧化硅薄膜后得到的溫度傳感器性能較好。在其中一個實施例中，所述測溫單元包括：金屬層，所述金屬層為金屬鉑層，所述金屬鉑層呈連續(xù)弓字形結(jié)構(gòu)；和第二金屬層，位于所述金屬鉑層外側(cè)兩端，用于引出所述溫度傳感器的輸出端子。在其中一個實施例中，所述測溫單元包括：多晶硅層，包括并排且間隔設(shè)置的n型多晶硅條和p型多晶硅條；和第三金屬層，所述第三金屬層包括位于相鄰多晶硅條之間的金屬結(jié)構(gòu)，所述n型多晶硅條和p型多晶硅條通過所述金屬結(jié)構(gòu)串聯(lián)，所述第三金屬層還包括位于所述多晶硅層外側(cè)兩端的第二金屬結(jié)構(gòu)，用于引出所述溫度傳感器的輸出端子。附圖說明圖為一實施例中溫度傳感器制備方法的方法流程圖；圖a～c為一實施例中溫度傳感器制備方法各步驟對應(yīng)生成的結(jié)構(gòu)剖視圖。圖為一實施例中溫度傳感器側(cè)視圖；圖為與圖對應(yīng)的溫度傳感器俯視圖；圖為另一實施例中溫度傳感器側(cè)視圖；圖為與圖對應(yīng)的溫度傳感器俯視圖。具體實施方式為了便于理解，下面將參照相關(guān)附圖對進行更的描述。附圖中給出了的實施例。但是，可以以許多不同的形式來實現(xiàn)，并不限于本文所描述的實施例。相反地。提供這些實施例的目的是使對的公開內(nèi)容更加透徹。除非另有定義。鄭州特大規(guī)模溫度傳感器技術(shù)溫度傳感器對于環(huán)境溫度的測量非常準確，廣泛應(yīng)用于農(nóng)業(yè)、工業(yè)、車間、庫房等領(lǐng)域。

    本文所使用的所有的技術(shù)和科學術(shù)語與屬于的技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員通常理解的含義相同。本文中在的說明書中所使用的術(shù)語只是為了描述具體的實施例的目的，不是旨在于限制。本文所使用的術(shù)語“及/或”包括一個或多個相關(guān)的所列項目的任意的和所有的組合。本申請?zhí)峁┮环N溫度傳感器的制備方法，如圖所示，其步驟包括：步驟s：在硅片上形成若干溝槽。結(jié)合圖a所示，獲取一硅晶片，從硅片上方垂直向下開設(shè)若干并列的溝槽形成溝槽陣列。在一實施例中，先在硅片上形成具有陣列圖案的光刻膠層，再以光刻膠作為掩膜版對硅片進行刻蝕形成若干溝槽。在本實施例中，刻蝕可為常規(guī)的干法刻蝕，具體為深度離子刻蝕。干法刻蝕具有更高的刻蝕精度和更好的各向異性性能，其精度可達亞微米級別，通過干法刻蝕，可以得到形態(tài)較好的溝槽，尤其是溝槽尺寸較小時利用干法刻蝕效果更佳。可通過調(diào)節(jié)掩膜板圖案和控制刻蝕參數(shù)得到不同形態(tài)的溝槽，其中，溝槽的寬度可為～μm，溝槽的深度可為～μm，相鄰溝槽之間的間隔可為～μm。溝槽的俯視形貌可以為圓形、方形或其他形狀。溝槽的寬度為溝槽側(cè)壁的大距離。如果溝槽為圓形，則溝槽的寬度為其直徑，如果溝槽為正方形，則溝槽的寬度為其對角的距離。

    p型多晶硅可為在多晶硅內(nèi)部摻雜ⅲ族元素形成導電類型為p型的多晶硅，且其內(nèi)部摻雜均勻。n型多晶硅條和p型多晶硅條形狀相同，在本方案中，n型多晶硅條和p型多晶硅條為長條型，多晶硅條平行設(shè)置，具有相同的間距。步驟s135：在多晶硅層上淀積第三金屬層，第三金屬層包括位于相鄰多晶硅條之間的金屬結(jié)構(gòu)，n型多晶硅條和p型多晶硅條通過金屬結(jié)構(gòu)串聯(lián)，第三金屬層還包括位于多晶硅層外側(cè)兩端的第二金屬結(jié)構(gòu)，用于引出溫度傳感器的輸出端子。繼續(xù)參見圖5和圖6，在多晶硅層50上淀積第三金屬層60，第三金屬層60包括金屬結(jié)構(gòu)61和第二金屬結(jié)構(gòu)62。金屬結(jié)構(gòu)61位于相鄰多晶硅條之間以連接該多晶硅條，具體為位于相鄰多晶硅條端部位置，所有n型多晶硅條51和p型多晶硅條52通過該金屬結(jié)構(gòu)61形成一串聯(lián)結(jié)構(gòu)，因此，當具有m個多晶硅條時，需要m-1個金屬結(jié)構(gòu)61使多晶硅條串聯(lián)起來。一個n型多晶硅條與一個p型多晶硅條串聯(lián)形成一個塞貝克(seebeck)結(jié)構(gòu)，在本方案中，是多個塞貝克結(jié)構(gòu)串聯(lián)形成一個測溫單元，因此，m需為偶數(shù)。第二金屬結(jié)構(gòu)62淀積于多晶硅層外側(cè)的兩端，以便于引出溫度傳感器的輸出端子。在本實施例中，第三金屬層60為金屬鋁層。上述熱電偶傳感結(jié)構(gòu)，利用半導體兩端的溫度不同時。傳感器作為新能源汽車電子控制系統(tǒng)的信息源，是電動汽車電子控制系統(tǒng)的關(guān)鍵部件。

    在另一實施例中，也可選用其他電阻溫度系數(shù)較高的材料如鎳、鐵等。為減小溫度傳感器的尺寸，在小尺寸的基底上增大鉑熱電阻的接觸面積，鉑熱電阻呈連續(xù)弓字形結(jié)構(gòu)(如圖4所示)。金屬鉑層30外側(cè)兩端淀積有一層第二金屬層40，該第二金屬層40可為金屬鋁層，用于從金屬鋁處引出該溫度傳感器的輸出端子，即溫度傳感器的輸出導線與鋁層連接以通過鋁層與金屬鉑層連接。上述鉑熱電阻傳感器，利用金屬鉑在溫度變化時自身電阻值也會隨著溫度改變的特性來測量溫度，溫度傳感器的輸出端子與顯示儀表連接，顯示儀表會顯示受溫度影響得到的鉑電阻對應(yīng)的溫度值。在一實施例中，因上述熱電阻傳感器中上層有金屬結(jié)構(gòu)如金屬鋁和金屬鉑，對于直接暴露在空氣中時容易氧化的金屬層，其上還形成有一層鈍化層，可對金屬層進行保護。同時，需要在對應(yīng)溫度傳感器引出端子處開設(shè)有通孔，通過通孔可引出輸出端子。在本實施例中，是在兩端的金屬鋁上方的鈍化層開設(shè)有通孔。鈍化層可為氧化硅層或氮化硅層，也可為疊設(shè)的氧化硅層和氮化硅層。在一實施例中，測溫單元為一熱電偶傳感結(jié)構(gòu)，包括：多晶硅層，包括并排且間隔設(shè)置的n型多晶硅條和p型多晶硅條；和第三金屬層。進氣溫度傳感器是一種常用的車用溫度傳感器。太原光纖溫度傳感器廠家

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    基底包括硅片和在硅片上形成的氧化硅薄膜，硅片和氧化硅薄膜之間形成有空腔；和測溫單元，測溫單元形成于所述空腔上方的氧化硅薄膜上，所述測溫單元用于感測環(huán)境溫度。如圖c所示，基底包括硅片和氧化硅薄膜，硅片和氧化硅薄膜之間形成有空腔。測溫單元是溫度傳感器的工作單元，溫度傳感器通過該測溫單元感知溫度后形成電信號并輸出，在本方案中，測溫單元形成于氧化硅薄膜上且位于空腔上方。在一實施例中，測溫單元為一熱電阻傳感結(jié)構(gòu)，包括：金屬層，金屬層為金屬鉑層，金屬鉑層呈連續(xù)弓字形結(jié)構(gòu)；和第二金屬層，位于金屬鉑層外側(cè)兩端，用于引出溫度傳感器的輸出端子。如圖和圖所示，氧化硅薄膜上淀積有一層金屬層，該金屬層為金屬鉑層，即熱電阻傳感結(jié)構(gòu)選用鉑熱電阻。在另一實施例中，也可選用其他電阻溫度系數(shù)較高的材料如鎳、鐵等。為減小溫度傳感器的尺寸，在小尺寸的基底上增大鉑熱電阻的接觸面積，鉑熱電阻呈連續(xù)弓字形結(jié)構(gòu)(如圖所示)。金屬鉑層外側(cè)兩端淀積有一層第二金屬層。該第二金屬層可為金屬鋁層，用于從金屬鋁處引出該溫度傳感器的輸出端子。深圳市美信美科技有限公司于2020年04月17日成立。石家莊手機溫度傳感器原理