控制閘閥Micron

微泰高壓閘閥可以應(yīng)用于多種設(shè)備，如蒸發(fā)、濺射、金剛石生長、PECV、PVD集群、卷對(duì)卷、涂層、蝕刻、擴(kuò)散和CVD等。它具有陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒和易于維護(hù)等特點(diǎn)，可替代VAT閘閥。該閥門的規(guī)格包括手動(dòng)或氣動(dòng)驅(qū)動(dòng)方式、1.5英寸至14英寸的法蘭尺寸、CF法蘭類型、焊接波紋管連接方式、氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM閥門密封、氟橡膠O型圈閥蓋密封、≤2秒響應(yīng)時(shí)間、1.5?至6?的操作壓力范圍為1×10-10 mbar至1400 mbar，8?至14?的操作壓力范圍為1×10-10 mbar至1200 mbar、≤30 mbar的開始時(shí)壓差、≤1400 mbar的6?以下閘門差動(dòng)壓力和≤1200 mbar的8?至14?閘門差動(dòng)壓力、<1×10 -10 Mbar/秒的泄漏率、250,000次維護(hù)前可用次數(shù)、閥體溫度≤200°、機(jī)構(gòu)溫度≤80°C、烤爐溫度≤150°C、閥體不銹鋼304或316L和驅(qū)動(dòng)器鋁6061陽極氧化、任意安裝位置和4至7 bar的N2操作壓力。此外，微泰高壓閘閥已在中國臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其他設(shè)備上得到應(yīng)用。如果您需要了解更多關(guān)于微泰高壓閘閥的信息，請(qǐng)聯(lián)系上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰尽Ｔ跈C(jī)組的給水、主汽、凝結(jié)水、抽汽、空氣、循環(huán)冷卻水、軸冷水等系統(tǒng)中，均安裝有許多閘閥?？刂崎l閥Micron

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥蝶閥Butterfly Valve。該蝶閥具有緊湊的設(shè)計(jì)和堅(jiān)固的不銹鋼結(jié)構(gòu)，通過閘板旋轉(zhuǎn)操作。蝶閥可以實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境。例如半導(dǎo)體和工業(yè)過程。蝶閥通過控制器和步進(jìn)電機(jī)自動(dòng)控制到用戶指定的值，保持一致的真空壓力?？梢栽诟哒婵窄h(huán)境中實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用?？刂葡到y(tǒng)閘閥是自動(dòng)控制到用戶指定的值，通過控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁?。蒸發(fā)閘閥Micron微泰轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。

微泰，高壓閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。可替代VAT閘閥。其特點(diǎn)是*陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:隔離泵。高壓閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動(dòng)方式：手動(dòng)或氣動(dòng)、法蘭尺寸：1.5英寸~ 14英寸、法蘭類型：CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應(yīng)時(shí)間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時(shí)的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動(dòng)壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護(hù)前可用次數(shù)：250,000次、閥體溫度≤ 200 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動(dòng)器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，有氣動(dòng)多位置閘閥（氣動(dòng)多定位閘閥、多定位插板閥、Pneumatic Multi Position）、氣動(dòng)（鎖定）閘閥和手動(dòng)（鎖定）閘閥，蝶閥，Butterfly Valve，步進(jìn)電機(jī)插板閥Stepper Motor Gate Valve，加熱插板閥（加熱閘閥Heating gate valve），鋁閘閥（AL Gate Valve），三重防護(hù)閘閥，應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。有中國臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。閘閥形體簡單，結(jié)構(gòu)長度短，制造工藝性好，適用范圍廣。

微泰，傳輸閥 (I-MOTION)、I型轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥應(yīng)用于晶圓加工，半導(dǎo)體加工，可替代VAT閘閥。其特點(diǎn)是? 主體材料：鋁或不銹鋼? 緊湊型設(shè)計(jì)? 使用維修配件工具包易于維護(hù)? 應(yīng)用：半導(dǎo)體系統(tǒng)中小于 450mm 晶圓的傳輸和處理室隔離，傳輸閥 (I-MOTION)、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥規(guī)格如下：閘門密封類型：傳輸閥 (I-MOTION)、右動(dòng)轉(zhuǎn)換閥、驅(qū)動(dòng)方式：氣動(dòng)、法蘭尺寸（內(nèi)徑） 32×222/46×236/50×336/56×500 、連接方式：焊接波紋管、閘門密封 Viton O 形圈/硫化密封件、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應(yīng)時(shí)間：≤ 2 sec、工作壓力范圍：1×10-10 mbar to 1200 mbar、開始時(shí)的壓差：≤ 30 mbar、開啟時(shí)壓差： ≤ 1200 mbar r、泄漏率不銹鋼：< 1×10 -9Mbar?/秒/鋁：< 1×10 -5  mbar ?/秒、維護(hù)前可用次數(shù)： ≥1,000,000次、閥體溫度≤ 200 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動(dòng)器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。微泰，高壓閘閥能應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD。專門用閘閥

當(dāng)真空閥打開時(shí)，閘門移出流路，使氣體以高電導(dǎo)率通過?？刂崎l閥Micron

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮?dú)饪刂崎l閥位置的閥門。它在閥門的頂部有一個(gè)內(nèi)置控制器，可以在本地和遠(yuǎn)程模式下操作。它還具有緊急關(guān)閉功能，以應(yīng)對(duì)泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。其特點(diǎn)之一是能夠遠(yuǎn)程檢查閥門狀態(tài)，并可用于具有不同法蘭類型的各種工藝。多定位閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動(dòng)方式操作，適用于需要壓力控制的所有加工領(lǐng)域。采用手動(dòng)調(diào)節(jié)控制裝置控制，用戶可直接控制閘門的開啟和關(guān)閉，以調(diào)節(jié)壓力。微泰半導(dǎo)體多定位閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁？刂崎l閥Micron