超真空閘閥TRANSFER VALVE

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥Heating gate valve，加熱插板閥，加熱閘閥，加熱器的加熱溫度為180-200度（可通過控制器設(shè)置溫度）-規(guī)格：適用雙金屬（達(dá)到200度時，斷電后溫度下降后重新啟動），應(yīng)用于去除粉末/氣體設(shè)備。微泰，加熱閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。加熱閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動方式：手動或氣動、法蘭尺寸：1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型：ISO、JIS、ASA、CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應(yīng)時間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 12 ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數(shù)：200,000次、、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。真空閘閥由一個滑動門或板組成，可以移動以阻止或允許通過真空閥體，從而有效地將腔室與外部環(huán)境隔離。超真空閘閥TRANSFER VALVE

微泰半導(dǎo)體閘閥的工作原理主要是通過閘板的升降來控制流體的通斷。當(dāng)閘板升起時，閘閥打開，允許流體通過；當(dāng)閘板降下時，閘閥關(guān)閉，阻止流體通過。在具體工作中，它利用各種機構(gòu)和設(shè)計來實現(xiàn)精確的控制和可靠的密封，以滿足半導(dǎo)體設(shè)備中對工藝控制的要求。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁?。超大型真空閘閥HV GATE VALVE真空閘閥的密封裝置確保關(guān)閉時的高真空完整性，防止泄漏并維持腔室內(nèi)的真空壓力。

微泰，三重防護閘閥、三防閘閥，應(yīng)用于? Evaporation? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD? 涂層? Etch? Diffusion?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。可替代VAT閘閥。微泰三重防護閘閥、三防閘閥其特點是? 閥門控制器（1CH ~ 4CH）? 應(yīng)用：半導(dǎo)體生產(chǎn)線中粉末和氣體等副產(chǎn)品的處理，防止回流。三重防護閘閥、三防閘閥規(guī)格如下：操作：氣動、法蘭尺寸（內(nèi)徑） 2.5? ~ 10?、法蘭類型ISO，KF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型環(huán)/Kalrez O型環(huán)、閥蓋密封：Viton O型圈、響應(yīng)時間：≤ 0.3 sec ~ 0.6 sec、操作壓力范圍： 1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar 8? ~ 10? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar、閘門上的壓差； 1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 10? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10-10 mbar ?/sec、維護前可用次數(shù)：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰尽?/p>

微泰，加熱閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上?？商娲鶹AT閘閥。其特點是*使用加熱套或內(nèi)部加熱器加熱*加熱控制器*應(yīng)用:去除粉末/氣體設(shè)備。加熱閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動方式：手動或氣動、法蘭尺寸：1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型：ISO、JIS、ASA、CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應(yīng)時間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 12 ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數(shù)：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。正確安裝、定期維護以及遵守制造商指南對于這些閥門的性能發(fā)揮和使用壽命至關(guān)重要。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥蝶閥Butterfly Valve。該蝶閥具有緊湊的設(shè)計和堅固的不銹鋼結(jié)構(gòu)，通過閘板旋轉(zhuǎn)操作。蝶閥可以實現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境。例如半導(dǎo)體和工業(yè)過程。蝶閥通過控制器和步進電機自動控制到用戶指定的值，保持一致的真空壓力?？梢栽诟哒婵窄h(huán)境中實現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用?？刂葡到y(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值，通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供。真空閘閥廣泛應(yīng)用于各個行業(yè)，包括半導(dǎo)體制造、研發(fā)、分析類儀器和真空鍍膜。超真空閘閥TRANSFER VALVE

微泰閘閥可替代HVA閘閥、VAT閘閥。超真空閘閥TRANSFER VALVE

微泰的傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體 PVD CVD 設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)，起著將工藝模塊中的晶圓轉(zhuǎn)移到工藝室的關(guān)鍵作用，就像一條溝槽。這些閥門能極大程度地減少閘板開閉時造成的真空壓力變化，使腔室內(nèi)的真空壓力得以穩(wěn)定維持。負(fù)責(zé)門控半導(dǎo)體晶圓轉(zhuǎn)移的傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥分為 I 型和 L 型兩種。其產(chǎn)品范圍包括多種尺寸規(guī)格，如 32 x 222、46 x 236、50 x 336、56 x 500 等。維護前使用周期可達(dá) 100 萬次，響應(yīng)時間為 2 秒，并可根據(jù)客戶要求定制法蘭。這些轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品有鋁制或不銹鋼制兩種，用于傳輸晶圓小于 450 毫米的半導(dǎo)體系統(tǒng)和隔離工藝室。I 型的特點是葉片能在垂直方向上快速移動，保證腔室壓力完美維持，它采用具有 LM 導(dǎo)向系統(tǒng)和單連桿的內(nèi)部機構(gòu)，確保高耐用性和長壽命。L 型轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品則設(shè)計緊湊，易于維護。I 型和 L 型轉(zhuǎn)移閥在閘門開啟和關(guān)閉過程中能極大限度地減少振動，且對溫度變化非常穩(wěn)定，能確保較長的使用壽命。此外，它們即使長時間使用，產(chǎn)生的顆粒也很少，能避免晶圓缺陷和主器件污染。微泰不斷創(chuàng)新，在壓力控制和控制閥制造方面持續(xù)努力，專注于真空閘閥的研發(fā)。超真空閘閥TRANSFER VALVE