擴(kuò)散閘閥L型轉(zhuǎn)移閥

微泰半導(dǎo)體閘閥的工作原理主要是通過閘板的升降來控制流體的通斷。當(dāng)閘板升起時(shí)，閘閥打開，允許流體通過；當(dāng)閘板降下時(shí)，閘閥關(guān)閉，阻止流體通過。在具體工作中，它利用各種機(jī)構(gòu)和設(shè)計(jì)來實(shí)現(xiàn)精確的控制和可靠的密封，以滿足半導(dǎo)體設(shè)備中對(duì)工藝控制的要求。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。該閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供。控制系統(tǒng)和蝶閥使用步進(jìn)電機(jī)操作，而多定位閘閥使用氣動(dòng)控制操作。擴(kuò)散閘閥L型轉(zhuǎn)移閥

微泰，超高壓閘閥應(yīng)用于? Evaporation? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? 蝕刻? Diffusion?CVD等設(shè)備上。期特點(diǎn)是*陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:研發(fā)和工業(yè)中的UHV隔離。高壓閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動(dòng)方式：手動(dòng)或氣動(dòng)、法蘭尺寸：1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型：CF、連接方式：焊接波紋管（AM350或STS316L）、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：銅墊圈、響應(yīng)時(shí)間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar 、開始時(shí)的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動(dòng)壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、初次維護(hù)前可用次數(shù)：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、CTemperature for Actuator≤ 150 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料：閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動(dòng)器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。擴(kuò)散閘閥L型轉(zhuǎn)移閥閘閥體內(nèi)設(shè)一個(gè)與介質(zhì)流向成垂直方向的平面閘板，靠這一閘板的升降來開啟或關(guān)閉介質(zhì)的通路。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，控制系統(tǒng)閘閥，控制閘閥、控制系統(tǒng)插板閥、控制系統(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動(dòng)方式操作，可以在高真空環(huán)境中實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用?？刂葡到y(tǒng)閘閥是自動(dòng)控制到用戶指定的值，通過控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁?。

微泰半導(dǎo)體閘閥的特點(diǎn)：插板閥主滑閥的球機(jī)構(gòu)方式-在量產(chǎn)工藝設(shè)備上的性能驗(yàn)證-由半永久性鋼球陶瓷和板簧組成，陶瓷和金屬觸摸驅(qū)動(dòng)無顆粒-已向中國臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備，設(shè)備廠批量供貨，已得到品質(zhì)認(rèn)可，已完成對(duì)半導(dǎo)體Utility設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證，而其他廠家閘閥金屬和金屬觸摸驅(qū)動(dòng)產(chǎn)生大量顆粒。使用鋼陶瓷球，與金屬摩擦?xí)r不會(huì)損壞，金屬與陶瓷球之間不會(huì)產(chǎn)生Particle，半永久板簧（SUS鋼板）的應(yīng)用確保閥門驅(qū)動(dòng)同步性，采用了固定球?qū)蚱骱弯撎沾?。微泰半?dǎo)體閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上?？商娲鶫VA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰尽．?dāng)真空閥打開時(shí)，閘門移出流路，使氣體以高電導(dǎo)率通過。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，這里介紹一下閥門控制器-主控制器（Valve Controller Introduction）1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸-本地控制器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸 -遙控器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸。1，開放/關(guān)閉速度LCD顯示；2，當(dāng)閥門或泵錯(cuò)誤時(shí)，燈點(diǎn)亮：3，自動(dòng)關(guān)閉功能-防止泵跳閘中的逆流；4，有閥門開關(guān)位置的信號(hào)輸出信號(hào)；5，鎖定功能-本地/遙控器在解鎖后進(jìn)行快速操作；6，無噪音，功耗低；7，歷史管理-打開/關(guān)閉/泵關(guān)閉等；8，UPS功能（1秒），微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，有中國臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)，可替代HVA閘閥、VAT閘閥。金屬閥體襯里高壓閥門主要有襯膠閥門、襯氟閥門、襯鉛閥門、襯塑閥門、襯搪瓷閥門。擴(kuò)散閘閥HV GATE VALVE

關(guān)閉真空閥涉及將閘門移動(dòng)穿過流路以形成密封。擴(kuò)散閘閥L型轉(zhuǎn)移閥

微泰，控制系統(tǒng)閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上?？商娲鶹AT閘閥。其特點(diǎn)是? 主體材質(zhì)：不銹鋼? 緊湊型設(shè)計(jì)? 帶步進(jìn)電機(jī)的集成壓力控制器? 應(yīng)用：需要壓力控制和隔離的地方?？刂葡到y(tǒng)閘閥規(guī)格如下：法蘭尺寸（ID）：1.5英寸~ 10英寸、材料：閥體(STS304)/機(jī)構(gòu)STS304、STS420、饋通：旋轉(zhuǎn)饋通、執(zhí)行器：步進(jìn)電機(jī)、氦泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、壓力范圍：1×10-8 mbar to 1.4 bar、閘門上的壓差≤1.4bar、維護(hù)前可用次數(shù)：100,000次、閥體溫度≤ 150 °、控制器≤35°C、安裝位置：任意、接口RS232、RS485、Devicenet、Profibus、EtherCat。有中國臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。擴(kuò)散閘閥L型轉(zhuǎn)移閥