浙江手機(jī)面板真空鍍膜設(shè)備制造商

來源: 發(fā)布時間:2024-10-08

進(jìn)一步地,所述第二底板內(nèi)和所述第二側(cè)壁內(nèi)均設(shè)有用于穿設(shè)溫控管的通道,所述溫控管埋設(shè)于所述通道內(nèi)。一種真空鍍膜設(shè)備,包括機(jī)械模塊部件、工藝模塊部件和本實用新型所述的真空反應(yīng)腔室,所述工藝模塊部件位于所述內(nèi)反應(yīng)腔內(nèi),部分所述機(jī)械模塊部件位于所述外腔體內(nèi)。本實用新型實施例提供的上述技術(shù)方案與現(xiàn)有技術(shù)相比具有如下***:本實用新型提供的真空反應(yīng)腔室,包括用于提供真空環(huán)境的外腔體,以及位于所述外腔體內(nèi)的用于進(jìn)行工藝反應(yīng)的內(nèi)反應(yīng)腔;并且,內(nèi)反應(yīng)腔的側(cè)壁上設(shè)有自動門,工件自外腔體經(jīng)自動門進(jìn)入內(nèi)反應(yīng)腔中。其中,外腔室和內(nèi)反應(yīng)腔為嵌套結(jié)構(gòu),其內(nèi)反應(yīng)腔位于外腔室內(nèi)。該結(jié)構(gòu)中,相當(dāng)于設(shè)置了兩個腔室,其中外腔體用于提供真空環(huán)境,而工藝反應(yīng)則在內(nèi)反應(yīng)腔中進(jìn)行。由于采用雙腔室結(jié)構(gòu),可以將工藝模塊部件設(shè)置于內(nèi)反應(yīng)腔中,而與工藝反應(yīng)無直接關(guān)系的機(jī)械模塊部件則被設(shè)置于外腔室中。經(jīng)抽真空處理后,位于外腔體中的工件再經(jīng)自動門進(jìn)入內(nèi)反應(yīng)腔中進(jìn)行工藝反應(yīng),可以有效避免設(shè)備雜質(zhì)和工件雜質(zhì)進(jìn)入內(nèi)反應(yīng)腔中。該結(jié)構(gòu)可以避免工藝環(huán)境外的污染源進(jìn)入工藝反應(yīng)區(qū)域,避免工藝污染,提供工藝質(zhì)量。由于設(shè)置雙腔室,作為工藝反應(yīng)區(qū)的內(nèi)反應(yīng)腔相對較小。 寶來利刀具真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,細(xì)膩有光澤,有需要可以來咨詢!浙江手機(jī)面板真空鍍膜設(shè)備制造商

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1. 磁控濺射鍍膜設(shè)備是一種精細(xì)高效的技術(shù),可以讓光學(xué)產(chǎn)品展現(xiàn)出更加出色的光芒。 2. 磁控濺射鍍膜設(shè)備能夠提供質(zhì)量涂層,從而提升光學(xué)產(chǎn)品的品質(zhì),在光學(xué)產(chǎn)品市場上具有重要的助力。 3. 磁控濺射鍍膜設(shè)備是一種綠色能源技術(shù),可以助推新能源汽車產(chǎn)品的寶來利,為新能源汽車市場的發(fā)展做出貢獻(xiàn)。 4. 磁控濺射鍍膜設(shè)備可以打造智能光學(xué)世界,為光學(xué)產(chǎn)品帶來更多的創(chuàng)新和發(fā)展機(jī)會。 5. 磁控濺射鍍膜設(shè)備具有獨特的創(chuàng)新性,可以助力光學(xué)產(chǎn)品領(lǐng)域的突破,為光學(xué)行業(yè)帶來更多的可能性。 6. 磁控濺射鍍膜設(shè)備是一種高科技保護(hù)技術(shù),可以助您驅(qū)動新能源汽車的發(fā)展,為新能源汽車行業(yè)提供更好的保護(hù)。 7. 磁控濺射鍍膜設(shè)備能夠為光學(xué)產(chǎn)品打造出較好的光學(xué)效果,助力打造出***的產(chǎn)品。 8. 磁控濺射鍍膜設(shè)備可以為光學(xué)產(chǎn)品增添清晰明亮的色彩,使其更加引人注目。 9. 磁控濺射鍍膜設(shè)備是一種環(huán)保創(chuàng)新技術(shù),可以推動新能源汽車市場的發(fā)展,為環(huán)保事業(yè)做出貢獻(xiàn)。 10. 磁控濺射鍍膜設(shè)備可以使光學(xué)產(chǎn)品和新能源汽車更具競爭力,為它們的發(fā)展提供支持。

    本實用新型涉及真空鍍膜領(lǐng)域,更具體地說,涉及一種真空鍍膜設(shè)備。背景技術(shù):真空鍍膜機(jī)要求在真空環(huán)境下進(jìn)行鍍膜,在鍍膜室進(jìn)行蒸鍍后,鍍膜室中殘留的部分未蒸餾到薄膜上的蒸汽遇冷會形成粉塵,而粉塵在別真空泵抽走后,會堵塞真空泵,影響真空泵的使用以及容易損壞真空泵。現(xiàn)有的真空鍍膜機(jī),在除粉塵時,多利用負(fù)壓作用將出氣口上的頂蓋打開,并利用彈簧的彈力蓋緊頂蓋,但在打開時需要較大的壓力才能頂出頂蓋,而真空鍍膜設(shè)備通過彈簧蓋緊頂蓋,容易出現(xiàn)蓋不緊的情況,導(dǎo)致鍍膜機(jī)內(nèi)真空度不夠,影響鍍膜的過程。技術(shù)實現(xiàn)要素:本實用新型要解決的技術(shù)問題在于,針對現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷,提供一種密封性良好且能夠除塵的真空鍍膜設(shè)備。本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:提供一種真空鍍膜設(shè)備,包括鍍膜機(jī);所述鍍膜機(jī)底部設(shè)有出氣管;所述出氣管上設(shè)有寶來利真空連接套;所述寶來利真空連接套上設(shè)有第二連接套;所述第二連接套中設(shè)有頂蓋,所述頂蓋與所述寶來利真空連接套之間通過磁吸連接;所述第二連接套遠(yuǎn)離所述鍍膜機(jī)一側(cè)設(shè)有抽氣管;所述抽氣管遠(yuǎn)離所述第二連接套一側(cè)設(shè)有真空泵;所述抽氣管內(nèi)靠近所述真空泵一側(cè)設(shè)有寶來利真空過濾網(wǎng)。 寶來利汽車車標(biāo)真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,細(xì)膩有光澤,有需要可以來考察!

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避免工藝污染,提供工藝質(zhì)量。由于設(shè)置雙腔室,作為工藝反應(yīng)區(qū)的內(nèi)反應(yīng)腔20相對較小,因此可以有效減少工藝原料的浪費(fèi),降低原料的使用成本,提高原料的利用率。同時,由于工藝反應(yīng)區(qū)的減少,可以有效控制該區(qū)域內(nèi)的溫度,使該區(qū)域內(nèi)的工藝溫度更易于均勻化,進(jìn)而提高工藝質(zhì)量。需要說明的是,內(nèi)反應(yīng)腔20位于外腔體10內(nèi),但內(nèi)反應(yīng)腔20和外腔體10處于可連通狀態(tài),并非完全隔絕,當(dāng)對外腔體10進(jìn)行抽真空處理時,內(nèi)反應(yīng)腔20內(nèi)也同時進(jìn)行抽真空操作。外腔體10和內(nèi)反應(yīng)腔20處于相互連通的狀態(tài),只是在外腔體10內(nèi)劃分出了一個立體空間以進(jìn)行工藝反應(yīng)。本實施方式中,參照圖2,所述外腔體10包括寶來利真空底板11和沿所述寶來利真空底板11周向設(shè)置的寶來利真空側(cè)壁12;所述內(nèi)反應(yīng)腔20包括第二底板21和沿所述第二底板21周向設(shè)置的第二側(cè)壁22;所述寶來利真空底板11與所述第二底板21相互分離設(shè)置,所述寶來利真空側(cè)壁12與所述第二側(cè)壁22相互分離設(shè)置;寶來利真空側(cè)壁12與蓋設(shè)于所述寶來利真空側(cè)壁12上的密封蓋板30密閉連接,所述第二側(cè)壁22與所述密封蓋板30相互分離設(shè)置。該結(jié)構(gòu)中,相當(dāng)于用第二底板21和第二側(cè)壁22在外腔體10中分割出一個更小的空間。 品質(zhì)汽車部件真空鍍膜設(shè)備,請選丹陽市寶來利真空機(jī)電有限公司,有需要可以來咨詢考察!化妝盒真空鍍膜設(shè)備怎么用

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本實用新型涉及真空設(shè)備領(lǐng)域,尤其涉及一種真空反應(yīng)腔室和真空鍍膜設(shè)備。背景技術(shù):目前,真空設(shè)備,例如,pecvd(plasmaenhancedchemicalvaporde****ition,等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)和pvd(physicalvaporde****ition,物寶來利相沉積)設(shè)備已被廣泛應(yīng)用于各種產(chǎn)品的生產(chǎn)過程中,如光伏電池、半導(dǎo)體器件等等。真空設(shè)備中(如pecvd設(shè)備、pvd設(shè)備)的寶來利真空反應(yīng)室通常為單個反應(yīng)腔室,傳動部件和升降部件等機(jī)械模塊部件以及濺射靶材等工藝模塊部件均設(shè)置于該單個反應(yīng)腔室內(nèi),這就造成反應(yīng)腔室內(nèi)的工藝環(huán)境不夠封閉,容易造成工藝環(huán)境污染。另外,設(shè)置單個反應(yīng)腔室時,由于工藝反應(yīng)區(qū)域較大,容易造成工藝所需原料的浪費(fèi),同時,還會造成工藝反應(yīng)過程中溫度波動大,不可控因素較多,從而影響工藝過程。技術(shù)實現(xiàn)要素:本實用新型的寶來利真空目的在于提供一種真空反應(yīng)腔室,以解決現(xiàn)有真空設(shè)備中由于只設(shè)置一個反應(yīng)腔室造成的工藝環(huán)境易被污染、工藝原料易被浪費(fèi)、環(huán)境溫度可控性低等問題。本實用新型的第二目的在于提供一種包含本實用新型真空反應(yīng)腔室的真空鍍膜設(shè)備。為達(dá)到上述目的,本實用新型采用的技術(shù)方案如下:一種真空反應(yīng)腔室,包括:用于提供真空環(huán)境的外腔體。 浙江手機(jī)面板真空鍍膜設(shè)備制造商