導(dǎo)電膜膜厚儀

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-10-08

    光纖紫外線、可見(jiàn)光譜和近紅外備用光纖。接觸探頭是相當(dāng)堅(jiān)固的,但是光纖不能經(jīng)常被抽屜碰撞或者被椅子壓過(guò)。該套件包括指令,以及簡(jiǎn)單的維修工具,新的和舊風(fēng)格的探頭。FO-PAT-SMA-SMA-200-22米長(zhǎng),直徑200um的光纖,兩端配備SMA接頭。米長(zhǎng),分叉反射探頭。

通用附件攜帶箱等。手提電腦手提電腦預(yù)裝FILMeasure軟件、XP和Microsoft辦公軟件。

電腦提箱用于攜帶F10、F20、F30和F40系統(tǒng)的提箱。ConflatFeedthrough真空穿通,"conflat、雙出入孔SMA,并通過(guò)泄漏測(cè)試。LensPaper-CenterHole**開(kāi)孔鏡頭紙,用于保護(hù)面朝下的樣品,5本各100張。 采用Michaelson干涉方法,紅外波段的激光能更好的穿透被測(cè)物體,準(zhǔn)確得到測(cè)試結(jié)果。導(dǎo)電膜膜厚儀

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F40 系列

包含的內(nèi)容:集成光譜儀/光源裝置FILMeasure 8 軟件FILMeasure **軟件 (用于遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)分析)MA-Cmount 安裝轉(zhuǎn)接器 顯微鏡轉(zhuǎn)接器光纖連接線BK7 參考材料TS-Focus-SiO2-4-10000 厚度標(biāo)準(zhǔn) 聚焦/厚度標(biāo)準(zhǔn)BG-Microscope (作為背景基準(zhǔn))

額外的好處:每臺(tái)系統(tǒng)內(nèi)建超過(guò)130種材料庫(kù), 隨著不同應(yīng)用更超過(guò)數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助(周一 - 周五)網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級(jí)計(jì)劃

如果需要了解更多的信息,請(qǐng)?jiān)L問(wèn)我們官網(wǎng)或者聯(lián)系我們。 膜厚測(cè)量?jī)x膜厚儀推薦型號(hào)F50-UV測(cè)厚范圍:5nm-40μm;波長(zhǎng):190-1100nm。

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F50 和 F60 的晶圓平臺(tái)提供不同尺寸晶圓平臺(tái)。

F50晶圓平臺(tái)- 100mm用于 2"、3" 和 4" 晶圓的 F50 平臺(tái)組件。

F50晶圓平臺(tái)- 200mm用于 4"、5"、 6" 和 200mm 晶圓的 F50 平臺(tái)組件。

F50晶圓平臺(tái)- 300mm用于 4"、5"、6"、200mm 和 300mm 晶圓的 F50 平臺(tái)組件。

F50晶圓平臺(tái)- 450mmF50 夾盤(pán)組件實(shí)用于 4", 5", 6", 200mm, 300mm, 以及450mm毫米晶片。

F50晶圓平臺(tái)- 訂制預(yù)訂 F50 的晶圓平臺(tái),通常在四星期內(nèi)交貨。

F60晶圓平臺(tái)- 200mm用于 4"、5"、6" 和 200mm 晶圓的 F60 平臺(tái)組件。

F60晶圓平臺(tái)- 300mm用于 4"、5"、6"、200mm 和 300mm 晶圓的 F60 平臺(tái)組件。

測(cè)量眼科設(shè)備涂層厚度光譜反射率可用于測(cè)量眼鏡片減反射 (AR) 光譜和殘余顏色,以及硬涂層和疏水層的厚度。

測(cè)量范例:

F10-AR系統(tǒng)配備HC升級(jí)選擇通過(guò)反射率信息進(jìn)行硬涂層厚度測(cè)量。這款儀器儀器采用接觸探頭,從而降低背面反射影響,并可測(cè)凹凸表面。接觸探頭安置在鏡頭表面。FILMeasure軟件自動(dòng)分析采集的光譜信息以確定鏡頭是否滿足指定的反射規(guī)格??蓽y(cè)平均反射率,指定點(diǎn)**小比較大反射率,以抵消硬涂層的存在。如果這個(gè)鏡頭符合要求,系統(tǒng)操作人員將得到清晰的“很好”指示。 重復(fù)性: 0.1 μm (1 sigma)單探頭* ;0.8 μm (1 sigma)雙探頭*。

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電介質(zhì)成千上萬(wàn)的電解質(zhì)薄膜被用于光學(xué),半導(dǎo)體,以及其它數(shù)十個(gè)行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測(cè)量所有的薄膜。 

測(cè)量范例氮化硅薄膜作為電介質(zhì),鈍化層,或掩膜材料被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。這個(gè)案例中,我們用F20-UVX成功地測(cè)量了硅基底上氮化硅薄膜的厚度,折射率,和消光系數(shù)。有趣的事,氮化硅薄膜的光學(xué)性質(zhì)與薄膜的分子當(dāng)量緊密相關(guān)。使用Filmetrics專(zhuān)有的氮化硅擴(kuò)散模型,F(xiàn)20-UVX可以很容易地測(cè)量氮化硅薄膜的厚度和光學(xué)性質(zhì),不管他們是富硅,貧硅,還是分子當(dāng)量。 產(chǎn)品名稱(chēng):紅外干涉厚度測(cè)量設(shè)備。授權(quán)分銷(xiāo)膜厚儀醫(yī)療設(shè)備

F20-EXR測(cè)厚范圍:15nm - 250μm;波長(zhǎng):380-1700nm。導(dǎo)電膜膜厚儀

濾光片整平光譜響應(yīng)。

ND#0.5 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見(jiàn)光光譜均勻度 + ND#0.5 衰減整平濾波器.

ND#1 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見(jiàn)光光譜均勻度 + ND#1 衰減整平濾波器.

ND#2 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見(jiàn)光光譜均勻度 + ND#2 衰減整平濾波器.

420nm 高通濾波器.420nm 高通濾波器於濾波器架.

515nm 高通濾波器.515nm 高通濾波器於濾波器架.

520nm 高通濾波器 +ND1.520nm 高通濾波器 + ND#1 十倍衰減整平濾波器.

520nm 高通濾波器 + ND#2520nm 高通濾波器 + ND#2 一百倍衰減整平濾波器.

550nm 高通濾波器550nm 高通濾波器於濾波器架. 導(dǎo)電膜膜厚儀

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岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司于2002年02月07日成立。法定代表人陳玲玲,公司經(jīng)營(yíng)范圍包括:磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣(mài)除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)等。