一旦認(rèn)為模具有缺陷,墨水標(biāo)記就會滲出模具,以便于視覺隔離。典型的目標(biāo)是在100萬個管芯中,少于6個管芯將是有缺陷的。還需要考慮其他因素,因此可以優(yōu)化芯片恢復(fù)率。
質(zhì)量體系確保模具的回收率很高。晶圓邊緣上的裸片經(jīng)常會部分丟失。芯片上電路的實際生產(chǎn)需要時間和資源。為了稍微簡化這種高度復(fù)雜的生產(chǎn)方法,不對邊緣上的大多數(shù)模具進(jìn)行進(jìn)一步處理以節(jié)省時間和資源的總成本。
半導(dǎo)體晶圓的光刻和鍵合技術(shù)以及應(yīng)用設(shè)備,可以關(guān)注這里:EVG光刻機(jī)和鍵合機(jī)。 業(yè)內(nèi)主流鍵合機(jī)使用工藝:黏合劑,陽極,直接/熔融,玻璃料,焊料(含共晶和瞬態(tài)液相)和金屬擴(kuò)散/熱壓縮。EVG850 LT鍵合機(jī)微流控應(yīng)用
長久鍵合系統(tǒng) EVG晶圓鍵合方法的引入將鍵合對準(zhǔn)與鍵合步驟分離開來,立即在業(yè)內(nèi)掀起了市場**。利用高溫和受控氣體環(huán)境下的高接觸力,這種新穎的方法已成為當(dāng)今的工藝標(biāo)準(zhǔn),EVG的鍵合機(jī)設(shè)備占據(jù)了半自動和全自動晶圓鍵合機(jī)的主要市場份額,并且安裝的機(jī)臺已經(jīng)超過1500個。EVG的晶圓鍵合機(jī)可提供蕞/佳的總擁有成本(TCO),并具有多種設(shè)計功能,可優(yōu)化鍵合良率。針對MEMS,3D集成或gao級封裝的不同市場需求,EVG優(yōu)化了用于對準(zhǔn)的多個模塊。下面是EVG的鍵合機(jī)EVG500系列介紹。EVG850 LT鍵合機(jī)微流控應(yīng)用對于無夾層鍵合工藝,材料和表面特征利于鍵合,但為了與夾層結(jié)合,鍵合材料沉積和組成決定了鍵合線的材質(zhì)。
根據(jù)型號和加熱器尺寸,EVG500系列鍵合機(jī)可以用于碎片和50mm至300mm的晶圓。這些工具的靈活性非常適合中等批量生產(chǎn)、研發(fā),并且可以通過簡單的方法進(jìn)行大批量生產(chǎn),因為鍵合程序可以轉(zhuǎn)移到EVGGEMINI大批量生產(chǎn)系統(tǒng)中。
鍵合室配有通用鍵合蓋,可快速排空,快速加熱和冷卻。通過控制溫度,壓力,時間和氣體,允許進(jìn)行大多數(shù)鍵合過程。也可以通過添加電源來執(zhí)行陽極鍵合。對于UV固化黏合劑,可選的鍵合室蓋具有UV源。鍵合可在真空或受控氣體條件下進(jìn)行。頂部和底部晶片的**溫度控制補(bǔ)償了不同的熱膨脹系數(shù),從而實現(xiàn)無應(yīng)力黏合和出色的溫度均勻性。在不需要重新配置硬件的情況下,可以在真空下執(zhí)行SOI/SDB(硅的直接鍵合)預(yù)鍵合。
EVG®520IS晶圓鍵合系統(tǒng)■擁有EVG®501和EVG®510鍵合機(jī)的所有功能■200mm的單個或者雙腔自動化系統(tǒng)■自動晶圓鍵合流程和晶圓替代轉(zhuǎn)移■集成冷卻站,實現(xiàn)高產(chǎn)量EVG®540自動鍵合系統(tǒng)■300mm單腔鍵合室■自動處理多達(dá)4個鍵合卡盤■模塊化鍵合室■自動底側(cè)冷卻EVG®560自動晶圓鍵合系統(tǒng)■多達(dá)4個鍵合室,滿足各種鍵合操作■自動裝卸鍵合室和冷卻站■遠(yuǎn)程在線診斷■自動化機(jī)器人處理系統(tǒng),用于機(jī)械對準(zhǔn)的自動盒式磁帶晶圓鍵合■工作站式布局,適用于所有鍵合工藝的設(shè)備配置EVG®GEMINI®自動化生產(chǎn)晶圓鍵合系統(tǒng)在蕞小的占地面積上,同時利用比較/高精度的EVGSmaiewNT技術(shù),前/列的GEMINI大批量生產(chǎn)系統(tǒng),并結(jié)合了自動光學(xué)對準(zhǔn)和鍵合操作。有關(guān)更多詳/細(xì)信息,請參/閱我們的GEMINI手冊。GEMINI FB XT采用了新的Smart View NT3鍵合對準(zhǔn)器,是專門為<50 nm的熔融和混合晶片鍵合對準(zhǔn)要求而開發(fā)的。
EVG®620BA自動鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng):
用于晶圓間對準(zhǔn)的自動鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng),用于研究和試生產(chǎn)。
EVG620鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)以其高度的自動化和可靠性而聞名,專為蕞大150mm晶圓尺寸的晶圓間對準(zhǔn)而設(shè)計。EVGroup的鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)具有蕞高的精度,靈活性和易用性,以及模塊化升級功能,并且已經(jīng)在眾多高通量生產(chǎn)環(huán)境中進(jìn)行了認(rèn)證。EVG的鍵對準(zhǔn)系統(tǒng)的精度可滿足MEMS生產(chǎn)和3D集成應(yīng)用等新興領(lǐng)域中蕞苛刻的對準(zhǔn)過程。
特征:
蕞適合EVG®501,EVG®510和EVG®520是鍵合系統(tǒng)。
支持蕞大150mm晶圓尺寸的雙晶圓或三晶圓堆疊的鍵對準(zhǔn)。
手動或電動對準(zhǔn)臺。
全電動高份辨率底面顯微鏡。
基于Windows的用戶界面。
在不同晶圓尺寸和不同鍵合應(yīng)用之間快速更換工具。 烘烤/冷卻模塊-適用于GEMINI用于在涂布后和鍵合之前加工粘合劑層。廣西臨時鍵合鍵合機(jī)
EVG鍵合機(jī)軟件,支持多語言,集成錯誤記錄/報告和恢復(fù)和單個用戶帳戶設(shè)置,可以簡化用戶常規(guī)操作。EVG850 LT鍵合機(jī)微流控應(yīng)用
儀器儀表行業(yè)飛速發(fā)展一是因為我國的經(jīng)濟(jì)高速穩(wěn)定發(fā)展的運行;按照過去的經(jīng)驗,如果GDP的增長在10%以上時,儀表行業(yè)的增長率則在26%~30%之間。二是因為我國宏觀調(diào)控對儀表行業(yè)的影響有一個滯后期,儀表往往在工程的后期才交付使用,因此,因宏觀調(diào)控政策而減少的收入對儀表行業(yè)的影響不會太大。在計算機(jī)和互聯(lián)網(wǎng)的急速發(fā)展到整個世界的背景下,儀器儀表也開始向網(wǎng)絡(luò)化突進(jìn),結(jié)合新的科技設(shè)備,通過廣域網(wǎng)和局域網(wǎng)直接操控儀器儀表,對公司的管理,經(jīng)營一體化,應(yīng)用模式的分析等各大方面產(chǎn)生影響。其他有限責(zé)任公司企業(yè)通過網(wǎng)絡(luò)這個平臺與客戶直接的交流,突破了世界和空間的限制,行家遠(yuǎn)程操控對儀器儀表進(jìn)行維護(hù)和分析。高科技的產(chǎn)品也隨之而來。半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測量儀產(chǎn)業(yè)是國民經(jīng)濟(jì)的基礎(chǔ)性、戰(zhàn)略性產(chǎn)業(yè),是信息化和工業(yè)化深度融合的源頭,對促進(jìn)工業(yè)轉(zhuǎn)型升級、發(fā)展戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)、推動現(xiàn)代國防建設(shè)、保證和提高大家生活水平具有重要作用。為迎接貿(mào)易型百年未有之大變局,行家認(rèn)為,要重新定義中國在世界經(jīng)濟(jì)版圖中的地位,要順應(yīng)形勢實現(xiàn)制造升級。以華立集團(tuán)在境外開發(fā)“中國工業(yè)園”的成功案例來闡述,跨國經(jīng)營要成為企業(yè)主動的戰(zhàn)略選擇,在不確定性中更好地活下去,以全球化視野看問題,很多困惑在全球化過程中會迎刃而解。EVG850 LT鍵合機(jī)微流控應(yīng)用