低溫納米壓印技術支持

納米壓印應用二：面板尺寸的大面積納米壓印

EVG專有的且經過大量證明的SmartNIL技術的***進展，已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為Gen 3（550 mm x 650 mm）的基板上實現。對于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術和光子元件等應用，至關重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經濟、高 效的方法，因為它不受光學系統(tǒng)的限制，并且可以為**小的結構提供比較好的圖案保真度。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。

SmartNIL集成多次使用的軟標記處理功能，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢，同時保留可擴展性和易于維護的特點。低溫納米壓印技術支持

EVG ® 770特征：

微透鏡用于晶片級光學器件的高 效率制造主下降到納米結構為SmartNIL ®

簡單實施不同種類的大師

可變抗蝕劑分配模式

分配，壓印和脫模過程中的實時圖像

用于壓印和脫模的原位力控制

可選的光學楔形誤差補償

可選的自動盒帶間處理

EVG ® 770技術數據：

晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2

對準：頂側顯微鏡，用于實時重疊校準≤±500 nm和精細校準≤±300 nm

較早印刷模具到模具的放置精度：≤1微米

有效印記區(qū)域：長達50 x 50毫米

自動分離：支持的

前處理：涂層：液滴分配（可選）

中國香港納米壓印技術支持納米壓印設備可用來進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。

納米壓印應用三：連續(xù)性UV納米壓印

EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合，分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。

關于WaveOptics       

      WaveOptics是衍射波導的全球**設計商和制造商，衍射波導是可穿戴AR設備中的關鍵光學組件。

      諸如智能眼鏡之類的AR可穿戴設備使用戶能夠觀看覆蓋在現實世界之上的數字圖像。有兩個關鍵元素可讓您看到這些圖像-微型投影儀之類的光源，以及將圖像從投影儀傳遞到用戶眼睛中的一種方式。

WaveOptics的波導技術可傳輸來自光源的光波并將其投射到用戶的眼睛中。該技術可產生大的眼框，雙目觀察和高視野。眼圖框（查看窗口）是從中可以看到完整圖像的AR顯示器的尺寸-請參見下圖。WaveOptics的波導提供清晰，無失真的文本以及穩(wěn)定的圖像。

      WaveOptics技術旨在用于工業(yè)，企業(yè)和消費者市場的沉浸式AR體驗。該公司的目標是，憑借其獨特的技術和專業(yè)知識，其波導將成為所有AR可穿戴設備中使用的he心光學組件，以實現****的制造可擴展性和視覺性能，并為眾多應用提供多功能性。 **小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結構提供了更多的自由度，這對于實現衍射光學元件（DOE）至關重要。

    納米壓印微影技術可望優(yōu)先導入LCD面板領域原本計劃應用在半導體生產制程的納米壓印微影技術(Nano-ImpLithography；NIL)，現將率先應用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術。據ETNews報導，南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研發(fā)小組，未確認NIL設備實際圖樣形成能力，直接參訪海外NIL設備廠。該制程研發(fā)小組透露，若引進相關設備，將可提升面板性能。并已展開具體供貨協(xié)商。NIL是以刻印圖樣的壓印機，像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后，再以壓印機接觸施加壓力，印出面板圖樣。之后再經過蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣，不需再另外貼附偏光薄膜。雖然在面板制程中需增加NIL、蝕刻制程，但省落偏光膜貼附制程，可維持同樣的生產成本。偏光膜會吸收部分光線降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣，將不會發(fā)生降低亮度的情況。通常面板分辨率越高，因配線較多，較難確保開口率(ApertureRatio)。EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。中國香港納米壓印技術支持

EVG先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求，因此使其成為大學和研發(fā)應用程序的理想選擇。低溫納米壓印技術支持

EVG ® 520 HE熱壓印系統(tǒng)

特色：經通用生產驗證的熱壓印系統(tǒng)，可滿足比較高要求

EVG520 HE半自動熱壓印系統(tǒng)設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。EVG的這種經過生產驗證的系統(tǒng)可以接受直徑比較大為200 mm的基板，并且與標準的半導體制造技術兼容。熱壓印系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能，并管理適用于熱壓印的整個聚合物范圍。結合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質量圖案轉印和納米分辨率的工藝。

如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 低溫納米壓印技術支持