半導體納米壓印測樣

    首先準備一塊柔性薄膜作為彈性基底層，然后將巰基-烯預聚物旋涂在具有表面結構的母板上，彈性薄膜壓印在巰基-烯層上，與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環(huán)境中固化通過“點擊反應”形成交聯(lián)聚合物，不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開母板后，彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起，獲得雙層結構的復合柔性模板。由于良好的材料特性，剛性巰基-烯結構層可以實現較高的分辨率。因此，利用該方法可以制備高 分辨的復合柔性模板，經過表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結構復合軟壓印模板。相關研究成果發(fā)表于《納米科技與納米技術雜志》（JournalofNanoscienceandNanotechnology）。（來自網絡。SmartNIL的主要技術是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結果。半導體納米壓印測樣

對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括用于印章的釋放機構。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力，以實現高產量的壓印，該卡盤支持軟性和硬性印模。

EVG610特征：

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和光刻工藝之間的轉換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

附加功能：

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷

高精密儀器納米壓印自動化測量EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備支持晶圓級光學（WLO）的制造。

EVG610特征：

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和光刻工藝之間的轉換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG610附加功能：

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷

EVG610技術數據：

晶圓直徑（基板尺寸）

標準光刻：比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

自動分離：不支持

工作印章制作：外部

EVG ® 520 HE特征：

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應用

自動化壓花工藝

EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印

氣動壓花選項

軟件控制的流程執(zhí)行

EVG ® 520 HE技術數據

加熱器尺寸：150毫米，200毫米

比較大基板尺寸：150毫米，200毫米

**小基板尺寸：單芯片，100毫米

比較大接觸力：10、20、60、100 kN

比較高溫度：標準：350°C；可選：550°C

粘合卡盤系統(tǒng)/對準系統(tǒng)

150毫米加熱器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200

200毫米加熱器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT

真空：

標準：0.1毫巴

可選：0.00001 mbar EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)是基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。

EVG ® 510 HE是EVG500系列的熱壓印系統(tǒng)

EV Group的一系列高精度熱壓印系統(tǒng)基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。出色的壓力和溫度控制以及大面積的均勻性可實現高精度的壓印。熱壓印是一種經濟高

效且靈活的制造技術，對于尺寸低至50 nm的特征，其復制精度非常高。該系統(tǒng)非常適合將復雜的微結構和納米結構以及高縱橫比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。壓模與基板對準的組合可將熱壓紋與預處理的基板結構對準。這個系列包含的型號有：EVG®510HE，EVG®520HE。 SmartNIL 非常適合對具有復雜納米結構微流控芯片進行高精度圖案化，用在下一代藥 物研究和醫(yī)學診斷設備生產。半導體納米壓印測樣

分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。半導體納米壓印測樣

UV-NIL / SmartNIL 納米壓印系統(tǒng)

EV Group為基于紫外線的納米壓印光刻（UV-NIL）提供完整的產品線，包括不同的單步壓印系統(tǒng)，大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。除了柔軟的UV-NIL，EVG還提供其專有的SmartNIL技術以及多種用途的聚合物印模技術。高 效，強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度，高度均勻的圖案層和**少的殘留層，并具有易于調整的晶圓尺寸和產量。EVG的SmartNIL兌現了納米壓印的長期承諾，即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產微米和納米級結構的高性能，低成本和具有批量生產能力的技術。

這個系列的型號包括：EVG®610；EVG®620NT；EVG®6200NT；EVG®720；EVG®7200；EVG®7200LA；HERCULES®NIL；EVG®770；IQAligner®。 半導體納米壓印測樣