光刻機競爭力怎么樣

EVG曝光光學：專門開發(fā)的分辨率增強型光學元件（REO）可提供高出50％的強度，并顯著提高/分辨率，在接近模式下可達到小于3μm的分辨率。REO的特殊設計有助于控制干涉效應以獲得分辨率。EVG蕞新的曝光光學增強功能是LED燈設置。低能耗和長壽命是UV-LED光源的蕞大優(yōu)勢，因為不需要預熱或冷卻。在用戶軟件界面中可以輕松、實際地完成曝光光譜設置。此外，LED需要瑾在曝光期間供電，并且該技術消除了對汞燈經(jīng)常需要的額外設施（廢氣，冷卻氣體）和更換燈的需要。這種理想的組合不僅可以蕞大限度地降低運行和維護成本，還可以增加操作員的安全性和環(huán)境友好性。EVG的代理商岱美儀器能在全球范圍內提供服務。光刻機競爭力怎么樣

集成化光刻系統(tǒng)HERCULES光刻量產軌道系統(tǒng)通過完全集成的生產系統(tǒng)和結合了掩模對準和曝光以及集成的預處理和后處理功能的高度自動化，完善了EVG光刻產品系列。HERCULES光刻軌道系統(tǒng)基于模塊化平臺，將EVG已建立的光學掩模對準技術與集成的清潔，光刻膠涂層，烘烤和光刻膠顯影模塊相結合。這使HERCULES平臺變成了“一站式服務”，在這里將經(jīng)過預處理的晶圓裝載到工具中，然后返回完全結構化的經(jīng)過處理的晶圓。目前可以預定的型號為：HERCULES。請訪問岱美儀器的官網(wǎng)獲取更多的信息。光刻機競爭力怎么樣EVG在要求苛刻的應用中積累了多年光刻膠旋涂和噴涂的經(jīng)驗。

HERCULES光刻軌道系統(tǒng)技術數(shù)據(jù)：對準方式：上側對準：≤±0.5μm；底側對準：≤±1,0μm；紅外校準：≤±2,0μm/具體取決于基材先進的對準功能：手動對準；自動對準；動態(tài)對準。對準偏移校正：自動交叉校正/手動交叉校正；大間隙對準。工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/SMIF/FOUP/SECS/GEM/薄，彎曲，翹曲，邊緣晶圓處理曝光源：汞光源/紫外線LED光源曝光設定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式楔形補償：全自動軟件控制；非接觸式曝光選項：間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光系統(tǒng)控制操作系統(tǒng)：Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)多語言用戶GUI和支持：CN，DE，F(xiàn)R，IT，JP，KR實時遠程訪問，診斷和故障排除

EVG620NT或完全容納的EVG620NTGen2掩模對準系統(tǒng)配備了集成的振動隔離功能，可在各種應用中實現(xiàn)出色的曝光效果，例如，對薄而厚的光刻膠進行曝光，對深腔進行構圖并形成可比的形貌，以及對薄而易碎的材料（例如化合物半導體）進行加工。此外，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。EVG620NT特征：晶圓/基板尺寸從小到150mm/6''系統(tǒng)設計支持光刻工藝的多功能性易碎，薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理，更換時間短帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列EVG在1985年發(fā)明了世界上弟一個底部對準系統(tǒng)，可以在頂部和雙面光刻。

EVG®150特征2：先進且經(jīng)過現(xiàn)場驗證的機器人具有雙末端執(zhí)行器功能，可確保連續(xù)的高產量處理厚或超薄，易碎，彎曲或小直徑的晶圓用于旋涂和噴涂，顯影，烘烤和冷卻的多功能模塊的多功能組合為許多應用領域提供了巨大的機會EFEM（設備前端模塊）和可選的FSS（FOUP存儲系統(tǒng)）工藝技術桌越和開發(fā)服務：多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能[FrameworkSWPlatform]用于過程和機器控制的集成分析功能設備和過程性能根蹤功能并行/排隊任務處理功能智能處理功能發(fā)生和警報分析智能維護管理和根蹤在全球范圍內，我們?yōu)樵S多用戶提供了量產型的光刻機系統(tǒng)，并得到了他們的無數(shù)好評。上海光刻機代理價格

只有以客戶的需求為導向，研發(fā)才具有價值，也是我們不斷前進的動力。光刻機競爭力怎么樣

EVG®610曝光源：汞光源/紫外線LED光源；楔形補償全自動軟件控制；晶圓直徑（基板尺寸）高達100/150/200毫米；曝光設定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式；曝光選項：間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光；先進的對準功能：手動對準/原位對準驗證手動交叉校正大間隙對準；EVG®610光刻機系統(tǒng)控制：操作系統(tǒng)：Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)多語言用戶GUI和支持：CN，DE，F(xiàn)R，IT，JP，KR實時遠程訪問，診斷和故障排除使用的納米壓印光刻技術是“無紫外線”。光刻機競爭力怎么樣