光學(xué)鍍膜膜厚儀質(zhì)量怎么樣

來源: 發(fā)布時間:2023-11-09

    氚燈電腦要求60mb硬盤空間50mb空閑內(nèi)存usb接口電源要求100-240vac,50-60hz,a選配以下鏡頭,就可在F20的基礎(chǔ)上升級為新一代的F70膜厚測量儀。鏡頭配件厚度范圍(Index=)精度光斑大小UPG-F70-SR-KIT15nm-50μmnm標(biāo)配mm(可選配下至20μm)LA-CTM-VIS-1mm50μmmμm5μm150μmmμm10μm產(chǎn)品應(yīng)用,在可測樣品基底上有了極大的飛躍:●幾乎所有材料表面上的鍍膜都可以測量,即使是藥片,木材或紙張等粗糙的非透明基底?!癫AЩ蛩芰系陌宀?、管道和容器。●光學(xué)鏡頭和眼科鏡片。Filmetrics光學(xué)膜厚測量儀經(jīng)驗**無出其右Filmetrics光學(xué)膜厚測量儀經(jīng)驗**無出其右Filmetrics光學(xué)膜厚測量儀經(jīng)驗**無出其右Filmetrics光學(xué)膜厚測量儀經(jīng)驗**無出其右Filmetrics光學(xué)膜厚測量儀經(jīng)驗**無出其右Filmetrics光學(xué)膜厚測量儀經(jīng)驗**無出其右。 厚度范圍: 測量從 1nm 到 13mm 的厚度。 測量 70nm 到 10um 薄膜的折射率。光學(xué)鍍膜膜厚儀質(zhì)量怎么樣

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生物醫(yī)療器械應(yīng)用中的涂層生物醫(yī)療器械的制造和準備方面會用到許多類型的涂層。有些涂層是為了保護設(shè)備免受腐蝕,而其他的則是為了預(yù)防組織損傷、敢染或者是排異反應(yīng)。藥物傳輸涂層也變得日益普通。其它生物醫(yī)學(xué)器械,如血管成型球囊,具有獨力的隔膜,必須具有均勻和固定的厚度才能正常工作。測量范例:支架是塑料或金屬制成的插入血管防止收縮的小管。很多時候,這些支架用聚合物或藥物涂層處理,以提高功能和耐腐蝕。F40配上20倍物鏡(25微米光斑),我們能夠測量沿不銹鋼支架外徑這些涂層的厚度。這個功能強大的儀器提供醫(yī)療器械行業(yè)快速可靠,非破壞性,無需樣品準備厚度的測量。干涉膜厚儀保修期多久FSM拉曼的應(yīng)用:局部應(yīng)力; 局部化學(xué)成分;局部損傷。

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F50系列包含的內(nèi)容:集成光譜儀/光源裝置光纖電纜4",6"and200mm參考晶圓TS-SiO2-4-7200厚度標(biāo)準BK7參考材料整平濾波器(用于高反射基板)真空泵備用燈型號厚度范圍*波長范圍F50:20nm-70μm380-1050nmF50-UV:5nm-40μm190-1100nmF50-NIR:100nm-250μm950-1700nmF50-EXR:20nm-250μm380-1700nmF50-UVX:5nm-250μm190-1700nmF50-XT:0.2μm-450μm1440-1690nmF50-s980:4μm-1mm960-1000nmF50-s1310:7μm-2mm1280-1340nmF50-s1550:10μm-3mm1520-1580nm額外的好處:每臺系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫,隨著不同應(yīng)用更超過數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助(周一-周五)網(wǎng)上的“手把手”支持(需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計劃。

厚度測量產(chǎn)品:我們的膜厚測量產(chǎn)品可適用于各種應(yīng)用。我們大部分的產(chǎn)品皆備有庫存以便快速交貨。請瀏覽本公司網(wǎng)頁產(chǎn)品資訊或聯(lián)系我們的應(yīng)用工程師針對您的厚度測量需求提供立即協(xié)助。單點厚度測量:一鍵搞定的薄膜厚度和折射率臺式測量系統(tǒng)。測量1nm到13mm的單層薄膜或多層薄膜堆。大多數(shù)產(chǎn)品都有庫存而且可立即出貨。F20全世界銷量蕞hao的薄膜測量系統(tǒng)。有各種不同附件和波長覆蓋范圍。微米(顯微)級別光斑尺寸厚度測量當(dāng)測量斑點只有1微米(μm)時,需要用自己的顯微鏡或者用我們提供的整個系統(tǒng)。F40-UV范圍:4nm-40μm,波長:190-1100nm。

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F60系列包含的內(nèi)容:集成平臺/光譜儀/光源裝置(不含平臺)4",6"and200mm參考晶圓TS-SiO2-4-7200厚度標(biāo)準真空泵備用燈型號厚度范圍*波長范圍F60-t:20nm-70μm380-1050nmF60-t-UV:5nm-40μm190-1100nmF60-t-NIR:100nm-250μm950-1700nmF60-t-EXR:20nm-250μm380-1700nmF60-t-UVX:5nm-250μm190-1700nmF60-t-XT0:2μm-450μm1440-1690nmF60-t-s980:4μm-1mm960-1000nmF60-t-s1310:7μm-2mm1280-1340nmF60-t-s1550:10μm-3mm1520-1580nm額外的好處:每臺系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫,隨著不同應(yīng)用更超過數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助(周一-周五)網(wǎng)上的“手把手”支持(需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計劃F20測厚范圍:15nm - 70μm;波長:380-1050nm。光學(xué)鍍膜膜厚儀用途是什么

重復(fù)性: 0.1 μm (1 sigma)單探頭* ;0.8 μm (1 sigma)雙探頭*。光學(xué)鍍膜膜厚儀質(zhì)量怎么樣

集成電路故障分析故障分析(FA)技術(shù)用來尋找并確定集成電路內(nèi)的故障原因。故障分析中需要進行薄膜厚度測量的兩種主要類型是正面去層(用于傳統(tǒng)的面朝上的電路封裝)和背面薄化(用于較新的覆晶技術(shù)正面朝下的電路封裝)。正面去層正面去層的工藝需要了解電介質(zhì)薄化后剩余電介質(zhì)的厚度。背面故障分析背面故障分析需要在電路系統(tǒng)成像前移除大部分硅晶粒的厚度,并了解在每個薄化步驟后剩余的硅厚度是相當(dāng)關(guān)鍵的。FilmetricsF3-sX是為了測量在不同的背面薄化過程的硅層厚度而專門設(shè)計的系統(tǒng)。厚度從5微米到1000微米能夠很容易的測量,另外可選配模組來延伸蕞小測量厚度至0.1微米,同時具有單點和多點測繪的版本可供選擇。測量范例現(xiàn)在我們使用我們的F3-s1550系統(tǒng)測量在不同的背面薄化過程的硅層厚度.具備特殊光學(xué)設(shè)計之F3-S1550利用比直徑更小於10μm的光斑尺寸得以測量拋光以及粗糙或不均勻表面的硅層厚度光學(xué)鍍膜膜厚儀質(zhì)量怎么樣