陜西鍵合機代理價格

來源: 發(fā)布時間:2023-08-31

EVG320技術數據晶圓直徑(基板尺寸)200、100-300毫米清潔系統(tǒng)開室,旋轉器和清潔臂腔室:由PP或PFA制成(可選)清潔介質:去離子水(標準),其他清潔介質(可選)旋轉卡盤:真空卡盤(標準)和邊緣處理卡盤(選件),由不含金屬離子的清潔材料制成旋轉:蕞高3000rpm(5秒內)超音速噴嘴頻率:1MHz(3MHz選件)輸出功率:30-60W去離子水流量:蕞高1.5升/分鐘有效清潔區(qū)域:?4.0mm材質:聚四氟乙烯兆聲區(qū)域傳感器可選的頻率:1MHz(3MHz選件)輸出功率:蕞大2.5W/cm2有效面積(蕞大輸出200W)去離子水流量:蕞高1.5升/分鐘有效的清潔區(qū)域:三角形,確保每次旋轉時整個晶片的輻射均勻性材質:不銹鋼和藍寶石刷的參數:材質:PVA可編程參數:刷子和晶圓速度(rpm)可調參數(刷壓縮,介質分配)自動化晶圓處理系統(tǒng)掃描區(qū)域兼容晶圓處理機器人領域EVG320,使24小時自動化盒對盒或FOUP到FOUP操作,達到蕞高吞吐量。與晶圓接觸的表面不會引起任何金屬離子污染。可選功能:ISO3mini-environment(根據ISO14644)EVG的鍵合機設備占據了半自動和全自動晶圓鍵合機的zhuyao市場份額,并且安裝的機臺已經超過1500套。陜西鍵合機代理價格

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EVG®540自動晶圓鍵合機系統(tǒng)全自動晶圓鍵合系統(tǒng),適用于蕞/大300mm的基板技術數據EVG540自動化晶圓鍵合系統(tǒng)是一種自動化的單腔室生產鍵合機,設計用于中試線生產以及用于晶圓級封裝,3D互連和MEMS應用的大批量生產的研發(fā)。EVG540鍵合機基于模塊化設計,為我們未來的晶圓鍵合工藝從研發(fā)到大規(guī)模生產的全集成生產鍵合系統(tǒng)過渡提供了可靠的解決方案。特征單室鍵合機,蕞/大基板尺寸為300mm與兼容的Smaiew®和MBA300自動處理多達四個鍵合卡盤符合高安全標準技術數據蕞/大加熱器尺寸300毫米裝載室使用2軸機器人蕞/高鍵合室2個EVG560鍵合機基于相同的鍵合室設計,并結合了EVG手動鍵合系統(tǒng)的主要功能以及增強的過程控制和自動化功能,可提供高產量的生產鍵合。機器人處理系統(tǒng)會自動加載和卸載處理室。本地鍵合機美元報價晶圓鍵合系統(tǒng)EVG501是適用于學術界和工業(yè)研究的多功能手動晶圓鍵合機。

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GEMINI自動化生產晶圓鍵合系統(tǒng)集成的模塊化大批量生產系統(tǒng),用于對準晶圓鍵合特色技術數據GEMINI自動化生產晶圓鍵合系統(tǒng)可實現(xiàn)ZUI高水平的自動化和過程集成。批量生產的晶圓對晶圓對準和ZUI大200毫米(300毫米)的晶圓鍵合工藝都在一個全自動平臺上執(zhí)行。器件制造商受益于產量的增加,高集成度以及多種鍵合工藝方法的選擇,例如陽極,硅熔合,熱壓和共晶鍵合。特征全自動集成平臺,用于晶圓對晶圓對準和晶圓鍵合底部,IR或Smaiew對準的配置選項多個鍵合室晶圓處理系統(tǒng)與鍵盤處理系統(tǒng)分開帶交換模塊的模塊化設計結合了EVG的精密對準EVG所有優(yōu)點和®500個系列系統(tǒng)與duli系統(tǒng)相比,占用空間ZUI小可選的過程模塊:LowTemp?等離子活化晶圓清洗涂敷模塊紫外線鍵合模塊烘烤/冷卻模塊對準驗證模塊技術數據蕞大加熱器尺寸150、200、300毫米裝載室5軸機器人ZUI高鍵合模塊4個ZUI高預處理模塊200毫米:4個300毫米:6個。

真空系統(tǒng):9x10-2mbar(標準)和9x10-3mbar(渦輪泵選件) 清潔站 清潔方式:沖洗(標準),超音速噴嘴,超音速面積傳感器,噴嘴,刷子(可選) 腔室:由PP或PFA制成(可選) 清潔介質:去離子水(標準),NH4OH和H2O2(ZUI大)。2%濃度(可選) 旋轉卡盤:真空卡盤(標準)和邊緣處理卡盤(選件),由不含金屬離子的清潔材料制成 旋轉:ZUI高3000rpm(5s) 清潔臂:蕞多5條介質線(1個超音速系統(tǒng)使用2條線) 可選功能 ISO3mini-environment(根據ISO14644) LowTemp?等離子活化室 紅外檢查站 以上資料由岱美儀器提供并做技術支持EVG鍵合機支持全系列晶圓鍵合工藝,這對當今和未來的器件制造是至關重要。

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EVG®620BA鍵合機選件 自動對準 紅外對準,用于內部基板鍵對準 NanoAlign®包增強加工能力 可與系統(tǒng)機架一起使用 掩模對準器的升級可能性 技術數據 常規(guī)系統(tǒng)配置 桌面 系統(tǒng)機架:可選 隔振:被動 對準方法 背面對準:±2μm3σ 透明對準:±1μm3σ 紅外校準:選件 對準階段 精密千分尺:手動 可選:電動千分尺 楔形補償:自動 基板/晶圓參數 尺寸:2英寸,3英寸,100毫米,150毫米 厚度:0.1-10毫米 ZUI高堆疊高度:10毫米 自動對準 可選的 處理系統(tǒng) 標準:3個卡帶站 可選:ZUI多5個站EVG鍵合機頂部和底部晶片的duli溫度控制補償了不同的熱膨脹系數,實現(xiàn)無應力鍵合和出色的溫度均勻性。山西熔融鍵合鍵合機

EVG鍵合機軟件,支持多語言,集成錯誤記錄/報告和恢復和單個用戶帳戶設置,可以簡化用戶常規(guī)操作。陜西鍵合機代理價格

目前關于晶片鍵合的研究很多,工藝日漸成熟,但是對于表面帶有微結構的硅片鍵合研究很少,鍵合效果很差。本文針對表面帶有微結構硅晶圓的封裝問題,提出一種基于采用Ti/Au作為金屬過渡層的硅—硅共晶鍵合的鍵合工藝,實現(xiàn)表面帶有微結構硅晶圓之間的鍵合,解決鍵合對硅晶圓表面要求極高,環(huán)境要求苛刻的問題。在對金層施加一定的壓力和溫度時,金層發(fā)生流動、互融,從而形成鍵合。該過程對金的純度要求較高,即當金層發(fā)生氧化就會影響鍵合質量。陜西鍵合機代理價格

岱美儀器技術服務(上海)有限公司成立于2002-02-07,同時啟動了以EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB,ThetaMetrisi為主的半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀產業(yè)布局。業(yè)務涵蓋了半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀等諸多領域,尤其半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀中具有強勁優(yōu)勢,完成了一大批具特色和時代特征的儀器儀表項目;同時在設計原創(chuàng)、科技創(chuàng)新、標準規(guī)范等方面推動行業(yè)發(fā)展。同時,企業(yè)針對用戶,在半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀等幾大領域,提供更多、更豐富的儀器儀表產品,進一步為全國更多單位和企業(yè)提供更具針對性的儀器儀表服務。公司坐落于金高路2216弄35號6幢306-308室,業(yè)務覆蓋于全國多個省市和地區(qū)。持續(xù)多年業(yè)務創(chuàng)收,進一步為當地經濟、社會協(xié)調發(fā)展做出了貢獻。