納米壓印光刻(NIL)-SmartNIL®用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝介紹:EVG是納米壓印光刻(NIL)的市場領(lǐng)仙設(shè)備供應(yīng)商。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)多年,掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專有SmartNIL技術(shù)通過多年的研究,開發(fā)和現(xiàn)場經(jīng)驗進行了優(yōu)化,以解決常規(guī)光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可以提供低至40nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果。如果要獲得詳細信息,請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司或者訪問官網(wǎng)。 NIL已被證明是在大面積上實現(xiàn)納米級圖案的蕞具成本效益的方法。進口納米壓印推薦產(chǎn)品
具體說來就是,MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動,因為標準的半導(dǎo)體制造技術(shù)旺旺不能精確控制住摻雜的水平(硅中摻雜以帶來或正或負的電荷),以確??绺鹘M件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅(SiO2)襯底上,然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控,摻雜有時會泄到別的不需要的地方,那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應(yīng)”區(qū)域,并導(dǎo)致性能下降。一個典型MOSFET不同層級的剖面圖。不過威斯康星大學(xué)麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個合作伙伴攜手(包括密歇根大學(xué)、德克薩斯大學(xué)、以及加州大學(xué)伯克利分校等),開發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導(dǎo)體品質(zhì)的新技術(shù)。黑龍江納米壓印現(xiàn)場服務(wù)HERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)。
SmartNIL是行業(yè)領(lǐng)仙的NIL技術(shù),可對小于40nm*的極小特征進行圖案化,并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實現(xiàn)無人可比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景,即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本,大批量替代光刻技術(shù)。注:*分辨率取決于過程和模板如果需要詳細的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。
EVG®770分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù),可進行有效的母版制作EVG770是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50mmx50mm的小模具到蕞大300mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合,分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。EVG770的主要功能包括精確的對準功能,完整的過程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的,因為它以蕞小的占位面積提供了蕞新的掩模對準技術(shù)。
EVG510® HE 熱壓印系統(tǒng)
應(yīng)用:高度靈活的熱壓印系統(tǒng),用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)
EVG510® HE 半自動熱壓印系統(tǒng)設(shè)計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。該設(shè)備配置有熱壓印腔室,其真空和壓印力可調(diào),可用于熱壓印各種聚合物材料,可進行高深寬比壓印,可用于高質(zhì)量納米微米圖案的熱轉(zhuǎn)印工藝。
EVG510® HE 特征:
用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用
自動化熱壓印工藝
配合EVG專有的對準設(shè)備,可用于需要光學(xué)對準的壓印
完全由軟件控制的流程執(zhí)行
主動式水冷系統(tǒng)提供安靜快速均勻的冷卻效果
可選配閉環(huán)冷卻水供應(yīng) EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)。山東納米壓印質(zhì)量怎么樣
EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻(UV-NIL)產(chǎn)品線。進口納米壓印推薦產(chǎn)品
EVG®620NT特征:頂部和底部對準能力高精度對準臺自動楔形補償序列電動和程序控制的曝光間隙支持ZUI新的UV-LED技術(shù)ZUI小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求分步流程指導(dǎo)遠程技術(shù)支持多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具臺式或帶防震花崗巖臺的單機版EVG®620NT附加功能:鍵對準紅外對準SmartNILμ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)晶圓直徑(基板尺寸)標準光刻:ZUI大150毫米的碎片柔軟的UV-NIL:ZUI大150毫米的碎片SmartNIL®:在100毫米范圍解析度:≤40nm(分辨率取決于模板和工藝)支持流程:軟UV-NIL&SmartNIL®曝光源:汞光源或紫外線LED光源對準:軟NIL:≤±0.5μmSmartNIL®:≤±3微米自動分離:柔紫外線NIL:不支持;SmartNIL®:支持工作印章制作:柔軟的UV-NIL:外部:SmartNIL®:支持進口納米壓印推薦產(chǎn)品
岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司是以提供半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測量設(shè)備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀內(nèi)的多項綜合服務(wù),為消費者多方位提供半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測量設(shè)備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀,公司位于金高路2216弄35號6幢306-308室,成立于2002-02-07,迄今已經(jīng)成長為儀器儀表行業(yè)內(nèi)同類型企業(yè)的佼佼者。公司主要提供磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù) 等領(lǐng)域內(nèi)的業(yè)務(wù),產(chǎn)品滿意,服務(wù)可高,能夠滿足多方位人群或公司的需要。岱美中國將以精良的技術(shù)、優(yōu)異的產(chǎn)品性能和完善的售后服務(wù),滿足國內(nèi)外廣大客戶的需求。