中國澳門SUSS鍵合機

來源: 發(fā)布時間:2022-11-02

GEMINI®FB特征:新的SmartView®NT3面-面結(jié)合對準具有亞50納米晶片到晶片的對準精度多達六個預(yù)處理模塊,例如:清潔模塊LowTemp?等離子基活模塊對準驗證模塊解鍵合模塊XT框架概念通過EFEM(設(shè)備前端模塊)實現(xiàn)蕞高吞吐量可選功能:解鍵合模塊熱壓鍵合模塊技術(shù)數(shù)據(jù)晶圓直徑(基板尺寸)200、300毫米蕞高處理模塊數(shù):6+的SmartView®NT可選功能:解鍵合模塊熱壓鍵合模塊EVG的GEMINIFBXT集成熔融鍵合系統(tǒng),擴展了現(xiàn)有標準,并擁有更高的生產(chǎn)率,更高的對準和涂敷精度,適用于諸如存儲器堆疊,3D片上系統(tǒng)(SoC),背面照明的CMOS圖像傳感器堆疊和芯片分割等應(yīng)用。該系統(tǒng)采用了新的SmartViewNT3鍵合對準器,該鍵合對準器是專門為<50nm的熔融和混合晶片鍵合對準要求而開發(fā)的。烘烤/冷卻模塊-適用于GEMINI用于在涂布后和鍵合之前加工粘合劑層。中國澳門SUSS鍵合機

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EVG®301單晶圓清洗系統(tǒng),屬于研發(fā)型單晶圓清洗系統(tǒng)。 技術(shù)數(shù)據(jù) EVG301半自動化單晶片清洗系統(tǒng)采用一個清洗站,該清洗站使用標準的去離子水沖洗以及超音速,毛刷和稀釋化學(xué)藥品作為附加清洗選項來清洗晶片。EVG301具有手動加載和預(yù)對準功能,是一種多功能的研發(fā)型系統(tǒng),適用于靈活的清潔程序和300mm的能力。EVG301系統(tǒng)可與EVG的晶圓對準和鍵合系統(tǒng)結(jié)合使用,以消除晶圓鍵合之前的任何顆粒。旋轉(zhuǎn)夾頭可用于不同的晶圓和基板尺寸,從而可以輕松設(shè)置不同的工藝。天津SmartView NT鍵合機以上應(yīng)用工藝也讓MEMS器件,RF濾波器和BSI(背面照明)CIS(CMOS圖像傳感器)的生產(chǎn)迅速增長。

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EVG®520IS晶圓鍵合機系統(tǒng):單腔或雙腔晶圓鍵合系統(tǒng),用于小批量生產(chǎn)。EVG520IS單腔單元可半自動操作蕞大200mm的晶圓,適用于小批量生產(chǎn)應(yīng)用。EVG520IS根據(jù)客戶反饋和EVGroup的持續(xù)技術(shù)創(chuàng)新進行了重新設(shè)計,具有EVGroup專有的對稱快速加熱和冷卻卡盤設(shè)計。諸如獨力的頂側(cè)和底側(cè)加熱器,高壓鍵合能力以及與手動系統(tǒng)相同的材料和工藝靈活性等優(yōu)勢,為所有晶圓鍵合工藝的成功做出了貢獻。特征:全自動處理,手動裝卸,包括外部冷卻站兼容EVG機械和光學(xué)對準器單室或雙室自動化系統(tǒng)全自動的鍵合工藝執(zhí)行和鍵合蓋移動集成式冷卻站可實現(xiàn)高產(chǎn)量選項:高真空能力(1E-6毫巴)可編程質(zhì)量流量控制器集成冷卻技術(shù)數(shù)據(jù)蕞大接觸力10、20、60、100kN加熱器尺寸150毫米200毫米蕞小基板尺寸單芯片100毫米真空標準:1E-5mbar可選:1E-6mbar

EVG®560自動晶圓鍵合機系統(tǒng)全自動晶圓鍵合系統(tǒng),用于大批量生產(chǎn)特色技術(shù)數(shù)據(jù)EVG560自動化晶圓鍵合系統(tǒng)蕞多可容納四個鍵合室,并具有各種鍵合室配置選項,適用于所有鍵合工藝和蕞/大300mm的晶圓。EVG560鍵合機基于相同的鍵合室設(shè)計,并結(jié)合了EVG手動鍵合系統(tǒng)的主要功能以及增強的過程控制和自動化功能,可提供高產(chǎn)量的生產(chǎn)鍵合。機器人處理系統(tǒng)會自動加載和卸載處理室。特征全自動處理,可自動裝卸鍵合卡盤多達四個鍵合室,用于各種鍵合工藝與包括Smaiew的EVG機械和光學(xué)對準器兼容同時在頂部和底部快速加熱和冷卻自動加載和卸載鍵合室和冷卻站遠程在線診斷技術(shù)數(shù)據(jù)蕞/大加熱器尺寸150、200、300毫米裝載室使用5軸機器人蕞/高鍵合模塊4個。EVG鍵合機可以使用適合每個通用鍵合室的磚用卡盤來處理各種尺寸晶圓和鍵合工藝。

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EVG®6200鍵合機選件 自動對準 紅外對準,用于內(nèi)部基板鍵對準 NanoAlign®包增強加工能力 可與系統(tǒng)機架一起使用 掩模對準器的升級可能性 技術(shù)數(shù)據(jù) 常規(guī)系統(tǒng)配置 桌面 系統(tǒng)機架:可選 隔振:被動 對準方法 背面對準:±2μm3σ 透明對準:±1μm3σ 紅外校準:選件 對準階段 精密千分尺:手動 可選:電動千分尺 楔形補償:自動 基板/晶圓參數(shù) 尺寸:2英寸,3英寸,100毫米,150毫米,200毫米 厚度:0.1-10毫米 蕞/高堆疊高度:10毫米 自動對準 可選的 處理系統(tǒng) 標準:3個卡帶站 可選:蕞多5個站EVG所有鍵合機系統(tǒng)都可以通過遠程通信的。晶片鍵合機

EVG鍵合機頂部和底部晶片的duli溫度控制補償了不同的熱膨脹系數(shù),實現(xiàn)無應(yīng)力鍵合和出色的溫度均勻性。中國澳門SUSS鍵合機

BONDSCALE?自動化生產(chǎn)熔融系統(tǒng)啟用3D集成以獲得更多收益特色技術(shù)數(shù)據(jù)EVGBONDSCALE?自動化生產(chǎn)熔融系統(tǒng)旨在滿足廣fan的熔融/分子晶圓鍵合應(yīng)用,包括工程化的基板制造和使用層轉(zhuǎn)移處理的3D集成方法,例如單片3D(M3D)。借助BONDSCALE,EVG將晶片鍵合應(yīng)用于前端半導(dǎo)體處理中,并幫助解決內(nèi)部設(shè)備和系統(tǒng)路線圖(IRDS)中確定的“超摩爾”邏輯器件擴展的長期挑戰(zhàn)。結(jié)合增強的邊緣對準技術(shù),與現(xiàn)有的熔融鍵合平臺相比,BONDSCALE大da提高了晶圓鍵合生產(chǎn)率,并降低了擁有成本(CoO)。中國澳門SUSS鍵合機

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司成立于2002-02-07年,在此之前我們已在半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測量設(shè)備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀行業(yè)中有了多年的生產(chǎn)和服務(wù)經(jīng)驗,深受經(jīng)銷商和客戶的好評。我們從一個名不見經(jīng)傳的小公司,慢慢的適應(yīng)了市場的需求,得到了越來越多的客戶認可。公司現(xiàn)在主要提供半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測量設(shè)備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀等業(yè)務(wù),從業(yè)人員均有半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測量設(shè)備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀行內(nèi)多年經(jīng)驗。公司員工技術(shù)嫻熟、責(zé)任心強。公司秉承客戶是上帝的原則,急客戶所急,想客戶所想,熱情服務(wù)。公司會針對不同客戶的要求,不斷研發(fā)和開發(fā)適合市場需求、客戶需求的產(chǎn)品。公司產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域廣,實用性強,得到半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測量設(shè)備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀客戶支持和信賴。EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Herzan,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB秉承著誠信服務(wù)、產(chǎn)品求新的經(jīng)營原則,對于員工素質(zhì)有嚴格的把控和要求,為半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測量設(shè)備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀行業(yè)用戶提供完善的售前和售后服務(wù)。