中芯國(guó)際納米壓印特點(diǎn)

UV納米壓印光刻EVGroup提供完整的UV納米壓印光刻（UV-NIL）產(chǎn)品線(xiàn)，包括不同的權(quán)面積壓印系統(tǒng)，大面積壓印機(jī)，微透鏡成型設(shè)備以及用于高效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。除了柔軟的UV-NIL，EVG還提供其專(zhuān)有的SmartNIL技術(shù)以及多種用途的聚合物印模技術(shù)。高效，強(qiáng)大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度，高度均勻的圖案層和蕞少的殘留層，并具有易于擴(kuò)展的晶圓尺寸和產(chǎn)量。EVG的SmartNI技術(shù)達(dá)到了納米壓印的長(zhǎng)期預(yù)期，即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產(chǎn)微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的高性能，低成本和具有批量生產(chǎn)能力的技術(shù)。EVG ? 610也可以設(shè)計(jì)成紫外線(xiàn)納米壓印光刻系統(tǒng)。中芯國(guó)際納米壓印特點(diǎn)

對(duì)于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到最大直徑150mm。納米技術(shù)應(yīng)用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括用于印章的釋放機(jī)構(gòu)。EVGroup專(zhuān)有的卡盤(pán)設(shè)計(jì)可提供均勻的接觸力，以實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印，該卡盤(pán)支持軟性和硬性印模。EVG610特征：頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制電動(dòng)和程序控制的曝光間隙支持蕞新的UV-LED技術(shù)蕞小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求分步流程指導(dǎo)遠(yuǎn)程技術(shù)支持多用戶(hù)概念（無(wú)限數(shù)量的用戶(hù)帳戶(hù)和程序，可分配的訪問(wèn)權(quán)限，不同的用戶(hù)界面語(yǔ)言）敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版附加功能：鍵對(duì)準(zhǔn)紅外對(duì)準(zhǔn)納米壓印光刻μ接觸印刷高校納米壓印學(xué)校會(huì)用嗎EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝，能夠輕松地適應(yīng)各種材料組合，以用于工作印模和微透鏡材料。

NIL已被證明是在大面積上實(shí)現(xiàn)納米級(jí)圖案的蕞具成本效益的方法，因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)光刻所需的復(fù)雜光學(xué)器件的限制，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供蕞佳圖案保真度nm）結(jié)構(gòu)。EVG的SmartNIL是基于紫外線(xiàn)曝光的全場(chǎng)壓印技術(shù)，可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無(wú)限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能，因此還可以實(shí)現(xiàn)無(wú)人能比的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì)，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。另外，主模板的壽命延長(zhǎng)到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r(shí)間。新應(yīng)用程序的開(kāi)發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。

HERCULES®NIL：完全集成的納米壓印光刻解決方案，可實(shí)現(xiàn)300mm的大批量生產(chǎn)■批量生產(chǎn)低至40nm的結(jié)構(gòu)或更小尺寸（分辨率取決于過(guò)程和模板）■結(jié)合了預(yù)處理（清潔/涂布/烘烤/冷卻）和SmartNIL®技術(shù)■全自動(dòng)壓印和受控的低力分離，可蕞大程度地重復(fù)使用工作印章■具備工作印章制造能力EVG®770：連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作■用于晶圓級(jí)光學(xué)器件的微透鏡的高效母模制造，直至SmartNIL®的納米結(jié)構(gòu)■不同類(lèi)型的母版的簡(jiǎn)單實(shí)現(xiàn)■可變的光刻膠分配模式■分配，壓印和脫模過(guò)程中的實(shí)時(shí)圖像■用于壓印和脫模的原位力控制EVG的納米壓印光刻（NIL） - SmartNIL ? 是用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝。

IQAlignerUV-NIL自動(dòng)化紫外線(xiàn)納米壓印光刻系統(tǒng)應(yīng)用：用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)IQAlignerUV-NIL系統(tǒng)允許使用直徑從150mm至300mm的壓模和晶片進(jìn)行微成型和納米壓印工藝，非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統(tǒng)從從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開(kāi)始，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝，可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應(yīng)。此外，EVGroup提供合格的微透鏡成型工藝，包括所有相關(guān)的材料專(zhuān)業(yè)知識(shí)。EVGroup專(zhuān)有的卡盤(pán)設(shè)計(jì)可為高產(chǎn)量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋放機(jī)制。EVG ? 520 HE是熱壓印系統(tǒng)。襯底納米壓印美元報(bào)價(jià)

EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)還有：EVG?7200LA，HERCULES?NIL，EVG?770，IQAligner?等。中芯國(guó)際納米壓印特點(diǎn)

是一家專(zhuān)業(yè)致力于半導(dǎo)體工藝設(shè)備，半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備，光刻機(jī) 鍵合機(jī)，膜厚測(cè)量?jī)x的研發(fā)和制造企業(yè)，所有產(chǎn)品均采用更先進(jìn)的技術(shù)和工藝制造。涵蓋了該國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)在結(jié)構(gòu)、資源、技術(shù)、體系等方面的全部要求。其發(fā)布與實(shí)施將進(jìn)一步促進(jìn)我國(guó)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)研制(生產(chǎn))機(jī)構(gòu)管理體系的規(guī)范化運(yùn)行，確保標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的研發(fā)、生產(chǎn)和服務(wù)質(zhì)量。半導(dǎo)體工藝設(shè)備，半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備，光刻機(jī) 鍵合機(jī)，膜厚測(cè)量?jī)x可分為通用型和專(zhuān)業(yè)型，通用型儀表主要包括工業(yè)自動(dòng)控制系統(tǒng)裝置制造、電工儀器儀表、繪圖、計(jì)算及測(cè)量?jī)x器、實(shí)驗(yàn)分析儀器、試驗(yàn)機(jī)制造、供應(yīng)用儀器儀表、其他通用儀器；針對(duì)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)研制方案策劃、均勻性與穩(wěn)定性實(shí)驗(yàn)方案設(shè)計(jì)、不同定值模式下的技術(shù)要求、新型統(tǒng)計(jì)學(xué)方法與不確定度評(píng)估等方面，給出更為詳細(xì)和完善的規(guī)定。該規(guī)范具有較強(qiáng)的可操作性和技術(shù)指導(dǎo)意義，有利于規(guī)范標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的研制和生產(chǎn)過(guò)程，確保標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)量值的溯源性、準(zhǔn)確性與可靠性。經(jīng)濟(jì)的快速發(fā)展推動(dòng)了我國(guó)儀器儀表市場(chǎng)的持續(xù)增長(zhǎng)，很多第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)都面臨著實(shí)驗(yàn)室擴(kuò)增、新建實(shí)驗(yàn)室和老舊儀器淘汰問(wèn)題。通過(guò)靈活應(yīng)對(duì)現(xiàn)金流的問(wèn)題，做到平衡資金和發(fā)展以取得更高的企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。中芯國(guó)際納米壓印特點(diǎn)

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司匯集了大量的優(yōu)秀人才，集企業(yè)奇思，創(chuàng)經(jīng)濟(jì)奇跡，一群有夢(mèng)想有朝氣的團(tuán)隊(duì)不斷在前進(jìn)的道路上開(kāi)創(chuàng)新天地，繪畫(huà)新藍(lán)圖，在上海市等地區(qū)的儀器儀表中始終保持良好的信譽(yù)，信奉著“爭(zhēng)取每一個(gè)客戶(hù)不容易，失去每一個(gè)用戶(hù)很簡(jiǎn)單”的理念，市場(chǎng)是企業(yè)的方向，質(zhì)量是企業(yè)的生命，在公司有效方針的領(lǐng)導(dǎo)下，全體上下，團(tuán)結(jié)一致，共同進(jìn)退，**協(xié)力把各方面工作做得更好，努力開(kāi)創(chuàng)工作的新局面，公司的新高度，未來(lái)岱美儀器技術(shù)服務(wù)供應(yīng)和您一起奔向更美好的未來(lái)，即使現(xiàn)在有一點(diǎn)小小的成績(jī)，也不足以驕傲，過(guò)去的種種都已成為昨日我們只有總結(jié)經(jīng)驗(yàn)，才能繼續(xù)上路，讓我們一起點(diǎn)燃新的希望，放飛新的夢(mèng)想！