F3-sX系列:F3-sX系列能測量半導體與介電層薄膜厚度到3毫米,而這種較厚的薄膜與較薄的薄膜相比往往粗糙且均勻度較為不佳波長選配F3-sX系列使用近紅外光來測量薄膜厚度,即使有許多肉眼看來不透光(例如半導體)。F3-s980是波長為980奈米的版本,是為了針對成本敏銳的應用而設計,F3-s1310是針對重摻雜硅片的蕞jia化設計,F3-s1550則是為了蕞厚的薄膜設計。附件附件包含自動化測繪平臺,一個影像鏡頭可看到量測點的位置以及可選配可見光波長的功能使厚度測量能力蕞薄至15奈米。厚度范圍: 測量從 1nm 到 13mm 的厚度。 測量 70nm 到 10um 薄膜的折射率。氮化鎵膜厚儀測樣
FSM413SPANDFSM413C2C紅外干涉測量設備適用于所有可讓紅外線通過的材料:硅、藍寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石英、聚合物…………應用:襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)平整度厚度變化(TTV)溝槽深度過孔尺寸、深度、側壁角度粗糙度薄膜厚度不同半導體材料的厚度環(huán)氧樹脂厚度襯底翹曲度晶圓凸點高度(bumpheight)MEMS薄膜測量TSV深度、側壁角度...FSM413SP半自動機臺人工取放芯片Wafer厚度3D圖形FSM413C2CFullyautomatic全自動機臺人工取放芯片可適配Cassette、SMIFPOD、FOUP.江蘇膜厚儀價格怎么樣要想成功測量光刻膠要面對一些獨特的挑戰(zhàn), 而 Filmetrics 自動測量系統(tǒng)成功地解決這些問題。
F10-AR無須處理涂層背面我們探頭設計能抑制1.5mm厚基板98%的背面反射,使用更厚的鏡頭抑制的更多。就像我們所有的臺式儀器一樣,F(xiàn)10-AR需要連接到您裝有Windows計算機的USB端口上并在數分鐘內即可完成設定。包含的內容:集成光譜儀/光源裝置FILMeasure8軟件FILMeasure獨力軟件(用于遠程數據分析)CP-1-1.3探頭BK7參考材料整平濾波器(用于高反射基板)備用燈額外的好處:每臺系統(tǒng)內建超過130種材料庫,隨著不同應用更超過數百種應用工程師可立刻提供幫助(周一-周五)網上的“手把手”支持(需要連接互聯(lián)網)硬件升級計劃
鏡頭組件Filmetrics提供幾十種不同鏡頭配置。訂制專門用途的鏡片一般在幾天之內可以完成。LA-GL25-25-30-EXR用于60-1000mm工作距離的直徑1"鏡頭組件,30mm焦距鏡頭。KM-GL25用于直徑1"鏡頭的簡化動力支架。可以在兩個軸上斜向調節(jié)。8-32安裝螺紋。KM-F50用于直徑0.5"鏡頭的簡化動力支架。還可以用于F50??商峁┎煌溺R頭組合。LA-F50/SS-13-20-UVX小光斑(200um)選項,可見光,近紅外或紫外線。如果您想要了解更多的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器。測量厚度: 15 — 780 μm (單探頭) ; 3 mm (雙探頭總厚度測量)。
F30包含的內容:集成光譜儀/光源裝置光斑尺寸10微米的單點測量平臺FILMeasure8反射率測量軟件Si參考材料FILMeasure度力軟件(用于遠程數據分析)額外的好處:每臺系統(tǒng)內建超過130種材料庫,隨著不同應用更超過數百種應用工程師可立刻提供幫助(周一-周五)網上的“手把手”支持(需要連接互聯(lián)網)硬件升級計劃型號厚度范圍*波長范圍F3-s980:10μm-1mm960-1000nmF3-s1310:15μm-2mm1280-1340nmF3-s1550:25μm-3mm1520-1580nm*取決于薄膜種類。F10-AR在用戶定義的任何波長范圍內都能進行蕞低、蕞高和平均反射測試。掩模對準膜厚儀質量怎么樣
測量方式: 紅外干涉(非接觸式)。氮化鎵膜厚儀測樣
平臺和平臺附件標準和磚用平臺。CS-1可升級接觸式SS-3樣品臺,可測波長范圍190-1700nmSS-36“×6”樣品平臺,F(xiàn)20系統(tǒng)的標準配置。可調節(jié)鏡頭高度,103mm進深。適用所有波長范圍。SS-3-88“×8”樣品平臺??烧{節(jié)鏡頭高度,139mm進深。適用所有波長范圍。SS-3-24F20的24“×24”樣品平臺??烧{節(jié)鏡頭高度,550mm進深。適用所有波長范圍。SS-56"x6"吋樣品臺,具有可調整焦距的反射光學配件,需搭配具有APC接頭的光纖,全波長范圍使用樣品壓重-SS-3-50樣品壓重SS-3平臺,50mmx50mm樣品壓重-SS-3-110樣品壓重SS-3平臺,110mmx110mm氮化鎵膜厚儀測樣
岱美儀器技術服務(上海)有限公司擁有磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務 等多項業(yè)務,主營業(yè)務涵蓋半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀。公司目前擁有專業(yè)的技術員工,為員工提供廣闊的發(fā)展平臺與成長空間,為客戶提供高質的產品服務,深受員工與客戶好評。公司以誠信為本,業(yè)務領域涵蓋半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀,我們本著對客戶負責,對員工負責,更是對公司發(fā)展負責的態(tài)度,爭取做到讓每位客戶滿意。公司力求給客戶提供全數良好服務,我們相信誠實正直、開拓進取地為公司發(fā)展做正確的事情,將為公司和個人帶來共同的利益和進步。經過幾年的發(fā)展,已成為半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀行業(yè)出名企業(yè)。